光刻機(jī)
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2025-2031年中國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展態(tài)勢及投資決策建議報告
《2025-2031年中國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展態(tài)勢及投資決策建議報告》共十一章，包含光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展趨勢分析，2025-2031年中國光刻機(jī)的投資風(fēng)險與投資建議，研究結(jié)論及發(fā)展建議等內(nèi)容。
2025-2031年中國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)競爭現(xiàn)狀及市場發(fā)展策略報告
《2025-2031年中國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)競爭現(xiàn)狀及市場發(fā)展策略報告》共十章，包含2025-2031年行業(yè)前景及趨勢預(yù)測，2025-2031年光刻機(jī)行業(yè)投資策略研究，光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略研究等內(nèi)容。
![研判2025！中國光刻機(jī)行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈、產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀、競爭格局及未來前景：行業(yè)高度依賴進(jìn)口，國產(chǎn)光刻機(jī)任重道遠(yuǎn)[圖]](http://img.chyxx.com/images/2022/0408/1ba88a0bac4b4a65439b806124f6fc0f4ab03cad.png?x-oss-process=style/w320)
研判2025！中國光刻機(jī)行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈、產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀、競爭格局及未來前景：行業(yè)高度依賴進(jìn)口，國產(chǎn)光刻機(jī)任重道遠(yuǎn)[圖]
近年來，消費(fèi)電子領(lǐng)域的需求呈現(xiàn)出相對低迷的態(tài)勢，然而，在這樣的大環(huán)境下，電動汽車、風(fēng)光儲以及人工智能等嶄新的需求領(lǐng)域卻異軍突起，成為了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)成長的強(qiáng)勁新動能。在這些新興需求的有力推動下，全球光刻機(jī)應(yīng)用需求不斷增加，市場規(guī)模實現(xiàn)了平穩(wěn)增長。數(shù)據(jù)顯示，2023年，全球光刻機(jī)市場規(guī)模已增長至271.3億美元，2024年有望進(jìn)一步增至315億美元。
半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)快報：65NM ARF光刻機(jī)官宣 國產(chǎn)光刻機(jī)行則將至
65nm ArF 光刻機(jī)官宣，參數(shù)對標(biāo)ASML1460K 及Nikon S322F。為促進(jìn)首臺（套）重大技術(shù)裝備創(chuàng)新發(fā)展和推廣應(yīng)用，加強(qiáng)產(chǎn)業(yè)、財政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同，工業(yè)和信息化部印發(fā)《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024 年版）》。
光刻機(jī)行業(yè)：國之重器 路雖遠(yuǎn)行則將至
光刻機(jī)被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠，光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中最復(fù)雜、關(guān)鍵一環(huán)。光刻機(jī)是芯片制造流程中的核心設(shè)備，其光刻的工藝水平直接決定芯片的制程、性能，被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠。光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中最復(fù)雜、關(guān)鍵步驟，耗時長、成本高。光刻機(jī)原理類似相機(jī)照相，發(fā)出光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后發(fā)生性質(zhì)變化，使圖形復(fù)印到薄片上，使薄片具電子線路圖作用。其中分辨率直接決定制程，是最重要的指標(biāo)；套刻精度影響良率；生產(chǎn)效率影響產(chǎn)能及經(jīng)濟(jì)性。
光刻機(jī)行業(yè)深度報告：博采眾星之光 點(diǎn)亮皇冠明珠
集成電路的工序之復(fù)雜與精細(xì)堪稱人類工業(yè)文明的皇冠，而光刻機(jī)則是這個皇冠上的明珠。
光刻機(jī)行業(yè)深度研究報告：核心“卡脖子”設(shè)備 國產(chǎn)替代蓄勢待發(fā)
光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一。全球光刻機(jī)市場規(guī)模超230 億美元，ASML 處于絕對領(lǐng)先，國內(nèi)市場規(guī)模超200 億元，但是國產(chǎn)化率僅2.5%。目前半導(dǎo)體制造工藝節(jié)點(diǎn)縮小至5nm 及以下，曝光波長逐漸縮短至13.5nm，光刻技術(shù)逐步完善成熟，但是國內(nèi)光刻機(jī)仍明顯落后ASML。
![2022年中國光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀：國產(chǎn)光刻機(jī)需求上漲，推動行業(yè)加速發(fā)展[圖]](http://img.chyxx.com/images/2022/0408/55d853aceb464ffcf6fad7c27bbd7795797b1b5a.png?x-oss-process=style/w320)
2022年中國光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀：國產(chǎn)光刻機(jī)需求上漲，推動行業(yè)加速發(fā)展[圖]
半導(dǎo)體是光刻機(jī)的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，中國政府出臺一系列政策支持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，包括資金支持、稅收優(yōu)惠等，刺激了國內(nèi)半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展，進(jìn)而推動了光刻機(jī)市場規(guī)模的上漲。2022年中國光刻機(jī)行業(yè)市場規(guī)模約為147.82億元。從區(qū)域分布來看，中國光刻機(jī)行業(yè)華東地區(qū)占比最重，占比為51.8%。
![2021年中國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈分析：國內(nèi)光刻機(jī)對外依存度過大[圖]](http://img.chyxx.com/images/2022/0318/c72e90be2fa4077f098a5b0cfe96e0444fe01ed5.jpg?x-oss-process=style/w320)
2021年中國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈分析：國內(nèi)光刻機(jī)對外依存度過大[圖]
2021年，ASML出貨了EUV光刻機(jī)總計多達(dá)42套，同比增漲35.48%；實現(xiàn)營收63億美元，同比增漲41.14%。
2015-2019年中國制半導(dǎo)體器件或集成電路用的分步重復(fù)光刻機(jī)(84862031)進(jìn)出口數(shù)量、進(jìn)出口金額統(tǒng)計
根據(jù)中國海關(guān)數(shù)據(jù)顯示：2019年1-12月中國制半導(dǎo)體器件或集成電路用的分步重復(fù)光刻機(jī)進(jìn)口數(shù)量為147臺，進(jìn)口金額為94072.97萬美元；2019年1-12月制半導(dǎo)體器件或集成電路用的分步重復(fù)光刻機(jī)出口數(shù)量為41臺，出口金額為4381.85萬美元。