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2025-2031年中國光刻機產(chǎn)業(yè)競爭現(xiàn)狀及市場發(fā)展策略報告
光刻機
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2025-2031年中國光刻機產(chǎn)業(yè)競爭現(xiàn)狀及市場發(fā)展策略報告

發(fā)布時間:2021-01-20 03:31:35

《2025-2031年中國光刻機產(chǎn)業(yè)競爭現(xiàn)狀及市場發(fā)展策略報告》共十章,包含2025-2031年行業(yè)前景及趨勢預(yù)測,2025-2031年光刻機行業(yè)投資策略研究,光刻機行業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略研究等內(nèi)容。

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智研咨詢組織編撰的《2025-2031年中國光刻機產(chǎn)業(yè)競爭現(xiàn)狀及市場發(fā)展策略報告》(以下簡稱“《報告》”)是中國光刻機領(lǐng)域的專業(yè)市場研究報告,是光刻機行業(yè)發(fā)展忠實的記錄者和見證者。旨在為中國光刻機行業(yè)生產(chǎn)廠家、政府機構(gòu)、業(yè)界專家了解和掌握中國光刻機發(fā)展脈絡(luò)提供全面參考。

《報告》自2018年開始出版,每年一版,目前已連續(xù)7年。智研咨詢研究團隊持續(xù)跟進光刻機發(fā)展歷程,總結(jié)現(xiàn)狀、深化研究、探索規(guī)律,《報告》總計10章,從發(fā)展綜述、運行環(huán)境、產(chǎn)業(yè)鏈分析、競爭形勢、企業(yè)動態(tài)、發(fā)展前景、投資策略等多個方面,通過詳實的數(shù)據(jù),全面總結(jié)和回顧了2023年光刻機行業(yè)的新趨向、新亮點,同時對現(xiàn)存問題進行了深度思考,為下一步光刻機行業(yè)高質(zhì)量發(fā)展提出了一系列有益的建議和未來的展望。

光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機根據(jù)應(yīng)用工序不同,可以分為用于生產(chǎn)芯片、用于封裝和用于LED制造;按照曝光光源,可分為紫外光源(UV)、深紫外光源(DUV)、極紫外光源(EUV);按照曝光方式,可分為接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻。據(jù)統(tǒng)計,2023年我國光刻機產(chǎn)量為124臺,需求量為727臺,市場規(guī)模為160.87億元。

光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機根據(jù)應(yīng)用工序不同,可以分為用于生產(chǎn)芯片、用于封裝和用于LED制造;按照曝光光源,可分為紫外光源(UV)、深紫外光源(DUV)、極紫外光源(EUV);按照曝光方式,可分為接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻。據(jù)統(tǒng)計,2023年我國光刻機產(chǎn)量為124臺,需求量為727臺,市場規(guī)模為160.87億元。

從產(chǎn)業(yè)鏈來看,光刻機產(chǎn)業(yè)鏈主要包括上游設(shè)備及材料、中游光刻機生產(chǎn)及下游光刻機應(yīng)用三大環(huán)節(jié)。光刻機行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈中最為核心設(shè)備分別為光學(xué)鏡頭和光學(xué)光源,其鏡頭控制光學(xué)系統(tǒng)的精密度以及光源決定使用的波長,光刻物鏡數(shù)值孔徑與光源波長決定了光刻機的工藝能力。光刻機主要應(yīng)用于晶圓制造、LED制造以及芯片封測等領(lǐng)域。

從產(chǎn)業(yè)鏈來看,光刻機產(chǎn)業(yè)鏈主要包括上游設(shè)備及材料、中游光刻機生產(chǎn)及下游光刻機應(yīng)用三大環(huán)節(jié)。光刻機行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈中最為核心設(shè)備分別為光學(xué)鏡頭和光學(xué)光源,其鏡頭控制光學(xué)系統(tǒng)的精密度以及光源決定使用的波長,光刻物鏡數(shù)值孔徑與光源波長決定了光刻機的工藝能力。光刻機主要應(yīng)用于晶圓制造、LED制造以及芯片封測等領(lǐng)域。

近年來,在國家政策的扶持以及一批龍頭企業(yè)的帶領(lǐng)下,我國光刻機技術(shù)也開始了飛速的發(fā)展,國內(nèi)光刻機生產(chǎn)商主要有SMEE、芯碁微裝、影速、科視光學(xué)、源卓微納、圖雙精密、鴻源鼎芯、ICRD等。其中SMEE(上海微電子裝備(集團)股份有限公司)主要致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設(shè)計、制造、銷售及技術(shù)服務(wù)。公司設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。芯碁微裝專業(yè)從事以微納直寫光刻為技術(shù)核心的直接成像設(shè)備及直寫光刻設(shè)備的研發(fā)和生產(chǎn)。主要產(chǎn)品及服務(wù)包括PCB直接成像設(shè)備及自動線系統(tǒng)、泛半導(dǎo)體直寫光刻設(shè)備及自動線系統(tǒng)、其他激光直接成像設(shè)備。科視光學(xué)是一家PCB直接成像設(shè)備,泛半導(dǎo)體直寫光刻設(shè)備、LED全自動及半自動曝光設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)于一體的國家高新技術(shù)企業(yè)。

近年來,在國家政策的扶持以及一批龍頭企業(yè)的帶領(lǐng)下,我國光刻機技術(shù)也開始了飛速的發(fā)展,國內(nèi)光刻機生產(chǎn)商主要有SMEE、芯碁微裝、影速、科視光學(xué)、源卓微納、圖雙精密、鴻源鼎芯、ICRD等。其中SMEE(上海微電子裝備(集團)股份有限公司)主要致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設(shè)計、制造、銷售及技術(shù)服務(wù)。公司設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。芯碁微裝專業(yè)從事以微納直寫光刻為技術(shù)核心的直接成像設(shè)備及直寫光刻設(shè)備的研發(fā)和生產(chǎn)。主要產(chǎn)品及服務(wù)包括PCB直接成像設(shè)備及自動線系統(tǒng)、泛半導(dǎo)體直寫光刻設(shè)備及自動線系統(tǒng)、其他激光直接成像設(shè)備??埔暪鈱W(xué)是一家PCB直接成像設(shè)備,泛半導(dǎo)體直寫光刻設(shè)備、LED全自動及半自動曝光設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)于一體的國家高新技術(shù)企業(yè)。

智研咨詢研究團隊圍繞中國光刻機產(chǎn)業(yè)規(guī)模、產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、重點企業(yè)情況、產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢等方面進行深入分析,并針對光刻機產(chǎn)業(yè)發(fā)展中存在的問題提出建議,為各地政府、產(chǎn)業(yè)鏈關(guān)聯(lián)企業(yè)、投資機構(gòu)提供參考。

【特別說明】
1)內(nèi)容概況部分為我司關(guān)于該研究報告核心要素的提煉與展現(xiàn),內(nèi)容概況中存在數(shù)據(jù)更新不及時情況,最終出具的報告數(shù)據(jù)以年度為單位監(jiān)測更新。
2)報告最終交付版本與內(nèi)容概況在展示形式上存在一定差異,但最終交付版完整、全面的涵蓋了內(nèi)容概況的相關(guān)要素。報告將以PDF格式提供。

報告目錄

第一部分行業(yè)發(fā)展環(huán)境

第一章光刻機行業(yè)發(fā)展綜述

第一節(jié) 光刻機的基本概述

一、光刻機簡介

二、光刻機的分類

三、光刻機的基本性能

第二節(jié) 光刻機行業(yè)統(tǒng)計標準

一、行業(yè)統(tǒng)計部門和統(tǒng)計口徑

二、光刻機行業(yè)統(tǒng)計方法

三、光刻機行業(yè)數(shù)據(jù)種類

第三節(jié) 光刻機的應(yīng)用分析

第四節(jié) 光刻機行業(yè)特征分析

一、光刻機行業(yè)成長速度

二、光刻機行業(yè)生命周期分析

三、光刻機行業(yè)對經(jīng)濟周期的反應(yīng)

第二章光刻機行業(yè)運行環(huán)境(PEST)分析

第一節(jié) 光刻機行業(yè)政治法律環(huán)境分析

一、行業(yè)監(jiān)管體制

二、主要產(chǎn)業(yè)政策

第二節(jié) 光刻機行業(yè)經(jīng)濟環(huán)境分析

一、國際宏觀經(jīng)濟形勢分析

二、國內(nèi)宏觀經(jīng)濟形勢分析

三、宏觀經(jīng)濟環(huán)境對行業(yè)的影響

第三節(jié) 國際光刻機行業(yè)社會環(huán)境分析

一、光刻機行業(yè)社會環(huán)境

二、社會環(huán)境對行業(yè)的影響

三、光刻機業(yè)發(fā)展對社會發(fā)展的影響

第四節(jié) 國際光刻機行業(yè)技術(shù)環(huán)境分析

一、光刻機技術(shù)進展

二、光刻機技術(shù)發(fā)展趨勢

第五節(jié) 國際光刻機行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

第三章我國光刻機所屬行業(yè)運行分析

第一節(jié) 我國光刻機行業(yè)發(fā)展狀況分析

一、我國光刻機行業(yè)發(fā)展階段

二、我國光刻機行業(yè)發(fā)展總體概況

三、我國光刻機行業(yè)發(fā)展特點分析

第二節(jié) 光刻機行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

一、我國光刻機行業(yè)市場規(guī)模

二、我國光刻機行業(yè)發(fā)展分析

三、中國光刻機企業(yè)發(fā)展分析

第三節(jié) 區(qū)域市場分析

一、區(qū)域市場分布總體情況

二、重點省市市場分析

第四節(jié) 半導(dǎo)體分立器件市場分析

一、細分產(chǎn)品市場規(guī)模及增速

二、重點細分產(chǎn)品前景預(yù)測

第五節(jié) 光刻機產(chǎn)品價格分析

一、光刻機價格走勢

二、影響光刻機價格的關(guān)鍵因素分析

1、成本

2、供需情況

3、關(guān)聯(lián)產(chǎn)品

三、光刻機產(chǎn)品價格變化趨勢

四、主要光刻機企業(yè)價位及價格策略

第四章我國光刻機所屬行業(yè)整體運行指標分析

第一節(jié) 中國光刻機所屬行業(yè)總體規(guī)模分析

一、企業(yè)數(shù)量分析

二、從業(yè)人數(shù)分析

三、行業(yè)資產(chǎn)規(guī)模分析

四、行業(yè)市場規(guī)模分析

第二節(jié) 我國光刻機所屬行業(yè)運營情況分析

一、光刻機所屬行業(yè)銷售收入分析

二、光刻機所屬行業(yè)銷售成本分析

三、光刻機所屬行業(yè)利潤分析

四、光刻機所屬行業(yè)虧損分析

第三節(jié) 我國光刻機所屬行業(yè)財務(wù)指標總體分析

一、行業(yè)盈利能力分析

二、行業(yè)償債能力分析

三、行業(yè)營運能力分析

四、行業(yè)發(fā)展能力分析

第二部分行業(yè)深度分析

第五章我國光刻機行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈分析

第一節(jié) 光刻機行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈分析

一、產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)分析

二、與上下游行業(yè)之間的關(guān)聯(lián)性

第二節(jié) 光刻機上游行業(yè)分析

一、上游行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

二、上游行業(yè)發(fā)展對光刻機行業(yè)的影響

三、2025-2031年上游行業(yè)發(fā)展趨勢

第三節(jié) 光刻機下游行業(yè)分析

一、光刻機下游分布

二、下游行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

三、下游行業(yè)發(fā)展對光刻機行業(yè)的影響

四、2025-2031年下游行業(yè)發(fā)展趨勢

第三部分行業(yè)競爭格局

第六章我國光刻機行業(yè)競爭形勢及策略

第一節(jié) 行業(yè)總體市場競爭狀況分析

一、光刻機行業(yè)波特五力分析

1、現(xiàn)有企業(yè)間競爭

2、潛在進入者分析

3、替代品威脅分析

4、供應(yīng)商議價能力

5、客戶議價能力

6、競爭結(jié)構(gòu)特點總結(jié)

二、光刻機行業(yè)集中度分析

三、光刻機行業(yè)區(qū)域集中度分析

第二節(jié) 光刻機行業(yè)SWOT分析

第三節(jié) 中國光刻機行業(yè)競爭格局綜述

一、光刻機行業(yè)競爭概況

1、中國光刻機行業(yè)競爭格局

2、全球光刻機行業(yè)競爭格局

二、中國光刻機行業(yè)競爭力分析

1、我國光刻機行業(yè)競爭力剖析

2、我國光刻機企業(yè)競爭能力提升途徑

三、光刻機企業(yè)市場競爭策略分析

第七章光刻機行業(yè)領(lǐng)先企業(yè)經(jīng)營形勢分析

第一節(jié) 上海微電子裝備(集團)股份有限公司

一、企業(yè)發(fā)展概況

二、主營業(yè)務(wù)分析

三、經(jīng)營狀況分析

四、競爭優(yōu)勢分析

第二節(jié) ASML

一、企業(yè)發(fā)展概況

二、主營業(yè)務(wù)分析

三、經(jīng)營狀況分析

四、競爭優(yōu)勢分析

第三節(jié) NIKON

一、企業(yè)發(fā)展概況

二、主營業(yè)務(wù)分析

三、經(jīng)營狀況分析

四、競爭優(yōu)勢分析

第四節(jié) CANON

一、企業(yè)發(fā)展概況

二、主營業(yè)務(wù)分析

三、經(jīng)營狀況分析

四、競爭優(yōu)勢分析

第四部分行業(yè)投資分析

第八章2025-2031年行業(yè)前景及趨勢預(yù)測

第一節(jié) 2025-2031年光刻機市場發(fā)展前景

一、2025-2031年光刻機市場發(fā)展?jié)摿?/p>

二、2025-2031年光刻機市場發(fā)展前景展望

三、2025-2031年光刻機細分行業(yè)發(fā)展前景分析

第二節(jié) 2025-2031年光刻機市場發(fā)展趨勢預(yù)測

一、2025-2031年光刻機行業(yè)發(fā)展趨勢

二、2025-2031年光刻機市場規(guī)模預(yù)測

三、2025-2031年光刻機行業(yè)應(yīng)用趨勢預(yù)測

四、2025-2031年細分市場發(fā)展趨勢預(yù)測

第三節(jié) 2025-2031年中國光刻機行業(yè)供需預(yù)測

一、2025-2031年中國光刻機行業(yè)供給預(yù)測

二、2025-2031年中國光刻機行業(yè)需求預(yù)測

三、2025-2031年中國光刻機行業(yè)供需平衡預(yù)測

第四節(jié) 影響企業(yè)生產(chǎn)與經(jīng)營的關(guān)鍵趨勢

一、市場整合成長趨勢

二、需求變化趨勢及新的商業(yè)機遇預(yù)測

三、企業(yè)區(qū)域市場拓展的趨勢

四、影響企業(yè)銷售與服務(wù)方式的關(guān)鍵趨勢

第九章2025-2031年光刻機行業(yè)投資策略研究

第一節(jié) 行業(yè)盈利模式分析

第二節(jié) 行業(yè)投資風(fēng)險分析

一、政策風(fēng)險

二、經(jīng)營風(fēng)險

三、技術(shù)風(fēng)險

四、市場風(fēng)險

五、財務(wù)風(fēng)險

第三節(jié) 國內(nèi)外光刻機行業(yè)投資現(xiàn)狀分析

一、國外投資現(xiàn)狀

二、國內(nèi)投資現(xiàn)狀

第四節(jié) 光刻機行業(yè)投資機會分析

一、區(qū)域市場投資機會

二、國際市場投資機會

三、產(chǎn)業(yè)鏈投資機會

四、細分行業(yè)投資機會

第五節(jié) 光刻機行業(yè)投資策略研究

一、2024年光刻機行業(yè)投資戰(zhàn)略

二、2025-2031年光刻機行業(yè)投資戰(zhàn)略

三、2025-2031年細分行業(yè)投資戰(zhàn)略

第五部分發(fā)展策略分析

第十章光刻機行業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略研究

第一節(jié) 影響我國光刻機行業(yè)發(fā)展的因素

一、有利因素

二、不利因素

第二節(jié) 光刻機企業(yè)面臨的困境及對策

第三節(jié) 對我國光刻機企業(yè)品牌的戰(zhàn)略思考

一、光刻機企業(yè)品牌的重要性

二、光刻機企業(yè)實施品牌戰(zhàn)略的意義

三、光刻機企業(yè)品牌的現(xiàn)狀分析

四、我國光刻機企業(yè)的品牌戰(zhàn)略

五、光刻機企業(yè)品牌戰(zhàn)略管理的策略

第四節(jié) 光刻機行業(yè)經(jīng)營策略分析

一、光刻機市場細分策略

二、光刻機市場創(chuàng)新策略

三、品牌定位與品類規(guī)劃

四、光刻機產(chǎn)品差異化戰(zhàn)略

第五節(jié) 光刻機行業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略研究

一、戰(zhàn)略綜合規(guī)劃

二、技術(shù)開發(fā)戰(zhàn)略

三、業(yè)務(wù)組合戰(zhàn)略

四、區(qū)域戰(zhàn)略規(guī)劃

五、產(chǎn)業(yè)戰(zhàn)略規(guī)劃

六、營銷品牌戰(zhàn)略

圖表目錄

圖表1:光刻機的分類

圖表2:光刻機光源發(fā)展路線圖

圖表3:2020-2024年我國光刻機市場規(guī)模走勢圖

圖表4:2020-2024年我國光刻機需求量走勢圖

圖表5:2020-2024年我國光刻機細分領(lǐng)域需求量統(tǒng)計圖

圖表6:2020-2024年我國光刻機產(chǎn)量走勢圖

圖表7:2020-2024年我國光刻機需求區(qū)域分布格局

圖表8:2020-2024年我國光刻機區(qū)域市場規(guī)模統(tǒng)計圖

圖表9:2020-2024年我國光刻機細分領(lǐng)域市場規(guī)模統(tǒng)計圖

圖表10:2025-2031年我國光刻機細分市場規(guī)模預(yù)測圖

圖表11:2020-2024年中國光刻機市場均價走勢

圖表12:2025-2031年光刻機均價走勢預(yù)測

圖表13:2020-2024年全球光學(xué)鏡頭市場規(guī)模走勢圖

圖表14:2020-2024年中國光學(xué)鏡頭市場規(guī)模走勢圖

圖表15:2020-2024年全球晶圓制造市場規(guī)模走勢圖

圖表16:2020-2024年中國晶圓制造市場規(guī)模

圖表17:2025-2031年中國光刻機市場規(guī)模預(yù)測

圖表18:2025-2031年細分市場規(guī)模預(yù)測

圖表19:2025-2031年中國光刻機行業(yè)產(chǎn)量預(yù)測

圖表20:2025-2031年中國光刻機行業(yè)需求量預(yù)測

更多圖表見正文……

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◆ 本報告分析師具有專業(yè)研究能力,報告中相關(guān)行業(yè)數(shù)據(jù)及市場預(yù)測主要為公司研究員采用桌面研究、業(yè)界訪談、市場調(diào)查及其他研究方法,部分文字和數(shù)據(jù)采集于公開信息,并且結(jié)合智研咨詢監(jiān)測產(chǎn)品數(shù)據(jù),通過智研統(tǒng)計預(yù)測模型估算獲得;企業(yè)數(shù)據(jù)主要為官方渠道以及訪談獲得,智研咨詢對該等信息的準確性、完整性和可靠性做最大努力的追求,受研究方法和數(shù)據(jù)獲取資源的限制,本報告只提供給用戶作為市場參考資料,本公司對該報告的數(shù)據(jù)和觀點不承擔法律責任。

◆ 本報告所涉及的觀點或信息僅供參考,不構(gòu)成任何證券或基金投資建議。本報告僅在相關(guān)法律許可的情況下發(fā)放,并僅為提供信息而發(fā)放,概不構(gòu)成任何廣告或證券研究報告。本報告數(shù)據(jù)均來自合法合規(guī)渠道,觀點產(chǎn)出及數(shù)據(jù)分析基于分析師對行業(yè)的客觀理解,本報告不受任何第三方授意或影響。

◆ 本報告所載的資料、意見及推測僅反映智研咨詢于發(fā)布本報告當日的判斷,過往報告中的描述不應(yīng)作為日后的表現(xiàn)依據(jù)。在不同時期,智研咨詢可發(fā)表與本報告所載資料、意見及推測不一致的報告或文章。智研咨詢均不保證本報告所含信息保持在最新狀態(tài)。同時,智研咨詢對本報告所含信息可在不發(fā)出通知的情形下做出修改,讀者應(yīng)當自行關(guān)注相應(yīng)的更新或修改。任何機構(gòu)或個人應(yīng)對其利用本報告的數(shù)據(jù)、分析、研究、部分或者全部內(nèi)容所進行的一切活動負責并承擔該等活動所導(dǎo)致的任何損失或傷害。

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