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2018年全球及中國集成電路半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀分析[圖]

    1956年國務(wù)院制定的《1956-1967科學(xué)技術(shù)發(fā)展遠(yuǎn)景規(guī)劃》中,已將半導(dǎo)體技術(shù)列為四大科研重點之一,明確提出“在12年內(nèi)可以制備和改進各種半導(dǎo)體器材、器件”的目標(biāo)。

    半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈復(fù)雜、技術(shù)難度高、需要資金巨大,且當(dāng)時國內(nèi)外特定的社會環(huán)境,中國在資金、人才及體制等各方面困難較多,導(dǎo)致中國半導(dǎo)體的發(fā)展舉步維艱。
直到70年代,中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的小規(guī)模生產(chǎn)才正式啟動。原電子工業(yè)部部長在其著作《芯路歷程》中回憶這一階段歷史,提到發(fā)展中第一個誤區(qū)“有設(shè)備就能生產(chǎn)”,70年代從日本、美國引進了大量二手、淘汰設(shè)備建立了超過30條生產(chǎn)線,但引進后無法解決技術(shù)、設(shè)計問題,也沒有管理、運營能力,第一批生產(chǎn)線未能發(fā)揮應(yīng)有的作用,就淡出了市場。

    90年代,國家再度啟動系列重大工程,為改變半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展困境,最知名的為908、909工程,908工程在1990年啟動,投資20億元建設(shè)國際領(lǐng)先的1微米(1000nm)制程工藝的晶圓制造產(chǎn)線。由于中國彼時整體經(jīng)濟力量還在蓄積,因此經(jīng)費、設(shè)備引進、建廠等環(huán)節(jié)仍然阻力較大,直至1998年產(chǎn)線得以竣工。此時國際工藝節(jié)點達(dá)到0.18微米,中國生產(chǎn)線剛建成就落后兩代。在1996年國家啟動了“909”工程,整體投資約100億元,并且做出很多打破審批的特事特辦,參與其中的公司如今只剩兩家,一個是909工程的主體華虹集團,另一個則是完全自籌1.355億元資金的華為設(shè)計公司,也就是后來的海思。

國家級相關(guān)集成電路重要政策

資料來源:智研咨詢整理

    集成電路產(chǎn)業(yè)鏈主要分為集成電路設(shè)計、集成電路制造以及集成電路封裝測試等三個主要環(huán)節(jié),同時每個環(huán)節(jié)配套以不同的制造設(shè)備和生產(chǎn)原材料等輔助環(huán)節(jié)。

    一、半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀

    半導(dǎo)體設(shè)備位于整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的上游,在新建晶圓廠中半導(dǎo)體設(shè)備支出的占比普遍達(dá)到80%。一條晶圓制造新建產(chǎn)線的資本支出占比如下:廠房20%、晶圓制造設(shè)備65%、組裝封裝設(shè)備5%,測試設(shè)備7%,其他3%。

新建晶圓廠資本支出占比拆分

資料來源:智研咨詢整理

    其中晶圓制造設(shè)備在半導(dǎo)體設(shè)備中占比最大,進一步細(xì)分晶圓制造設(shè)備類型,光刻機占比30%,刻蝕20%,PVD15%,CVD10%,量測10%,離子注入5%,拋光5%,擴散5%。

晶圓制造設(shè)備投資占比拆分

資料來源:智研咨詢整理

    2017年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場總量約為566億美元,同比增長37%,2018年約在600億美元規(guī)模。中國是全球半導(dǎo)體設(shè)備的第三大市場,2018年中國半導(dǎo)體設(shè)備123.78億元。

2015-2018年中國半導(dǎo)體設(shè)備銷售收入統(tǒng)計

資料來源:中國電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會、智研咨詢整理

    我國半導(dǎo)體設(shè)備銷售收入一直保持高速增長狀態(tài),2018年全國半導(dǎo)體設(shè)備銷售收入123.78億元,同比增長39.14%,2015-2018年期間,我國半導(dǎo)體設(shè)備銷售收入復(fù)合增長率高達(dá)37.93%。

2009-2018年中國半導(dǎo)體專用設(shè)備行業(yè)進出口數(shù)據(jù)

年份
進口金額
(美元)
進口數(shù)量
(臺)
出口金額
(美元)
出口數(shù)量
(臺)
2009年
1973693804
3563
60017559
1372
2010年
4502235200
8285
134894372
1976
2011年
7137119722
10573
125780064
4354
2012年
2723618178
4979
147436389
2840
2013年
2607612580
5059
181663042
6306
2014年
4441029193
6032
233924981
7848
2015年
4501251944
6619
251382963
13491
2016年
5245678546
7768
375369671
517891
2017年
6297335372
9117
296139929
523277
2018年
11251149382
13942
355322812
810606

資料來源:中國海關(guān)

    半導(dǎo)體設(shè)備具備極高的門檻和壁壘,全球半導(dǎo)體設(shè)備主要被日美所壟斷,核心設(shè)備如光刻、刻蝕、PVD、CVD、氧化/擴散等設(shè)備的top3市占率普遍在90%以上。

半導(dǎo)體制造核心設(shè)備市占率情況

-
光刻
刻蝕
PVD
CVD
氧化/擴散
第一
ASML
LAM
AMAT
AMAT
Hitachi
第二
Nikon
TEL
Evatec
TEL
TEL
第三
Canon
AMAT
Ulvac
LAM
ASM
前三市占率
92.80%
90.50%
96.20%
70%
94.80%

資料來源:智研咨詢整理

    目前光刻機、刻蝕、鍍膜、量測、清洗、離子注入等核心設(shè)備的國產(chǎn)率普遍較低。經(jīng)過多年培育,國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備已經(jīng)取得較大進展,整體水平達(dá)到28nm,并在14nm和7nm實現(xiàn)了部分設(shè)備的突破。

    具體來講,28nm的刻蝕機、薄膜沉積設(shè)備、氧化擴散爐、清洗設(shè)備和離子注入機已經(jīng)實現(xiàn)量產(chǎn);14nm的硅/金屬刻蝕機、薄膜沉積設(shè)備、單片退火設(shè)備和清洗設(shè)備已經(jīng)開發(fā)成功。8英寸的CMP設(shè)備也已在客戶端進行驗證;7nm的介質(zhì)刻蝕機已被中微半導(dǎo)體開發(fā)成功;上海微電子已經(jīng)實現(xiàn)90nm光刻機的國產(chǎn)化。在中低端制程,國產(chǎn)化率有望得到顯著提升,先進制程產(chǎn)線為保證產(chǎn)品良率,目前仍將以采購海外設(shè)備為主。

    從政策上看,隨著《國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進綱要》《中國制造 2025》等綱領(lǐng)的退出,國內(nèi)針對半導(dǎo)體裝備的稅收優(yōu)惠、地方政策支持逐步形成合力,為本土半導(dǎo)體設(shè)備廠商的投融資、研發(fā)創(chuàng)新、產(chǎn)能擴張、人才引進等創(chuàng)造良好環(huán)境。

    財政部先后于 2008、2012、2018 年出臺稅收政策減免集成電路生產(chǎn)企業(yè)所得稅。從地方產(chǎn)業(yè)政策來看,多地退出集成電路產(chǎn)業(yè)扶持政策及發(fā)展規(guī)劃,從投融資、企業(yè)培育、研發(fā)、人才、知識產(chǎn)權(quán)、進出口以及政府管理等方面退出一系列政策,對符合要求的企業(yè)給予獎勵和研發(fā)補助。

集成電路生產(chǎn)企業(yè)稅收優(yōu)惠政策情況

年份
文件
產(chǎn)線要求A
配套減稅政策A
產(chǎn)線要求B
配套減稅政策B
獲利起始年份
2008
財政部、國家稅務(wù)總局關(guān)于企業(yè)所得稅若干優(yōu)惠政策的通知
線寬<800nm
兩免三減半
線寬要求<250nm,或投資額>80億
經(jīng)營期在15年以上,五免五減半,經(jīng)營期在15年以下,減按15%征稅
自獲利年起計算優(yōu)惠期
2012
關(guān)于進一步鼓勵軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展企業(yè)所得稅政策的通知
線寬<800nm
兩免三減半
線寬要求<250nm,或投資額>80億
經(jīng)營期在15年以上,五免五減半,經(jīng)營期在15年以下,減按15%征稅
自獲利年起計算優(yōu)惠期
2018
關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策問題的通知
線寬<130nm
兩免三減半
線寬要求<65nm,或投資額>150億
經(jīng)營期在15年以上,五免五減半
企業(yè)按照獲利年實行優(yōu)惠,項目按照收入年實行優(yōu)惠

資料來源:財政部、智研咨詢整理

    二、芯片設(shè)計產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀

    全球半導(dǎo)體分為IDM模式和垂直分工模式兩種商業(yè)模式,老牌大廠由于歷史原因,多為IDM模式。隨著集成電路技術(shù)演進,摩爾定律逼近極限,各環(huán)節(jié)技術(shù)、資金壁壘日漸提高,傳統(tǒng)IDM模式弊端凸顯,新銳廠商多選擇Fabless(無晶圓廠)模式,輕裝追趕。集成電路設(shè)計為知識密集型產(chǎn)業(yè),國際上比較典型的參與者主要有AMD、英偉達(dá)、高通、聯(lián)發(fā)科、蘋果、華為海思等公司。芯片設(shè)計可以分為數(shù)字集成電路設(shè)計和模擬集成電路設(shè)計兩大類。模擬集成電路設(shè)計包括電源集成電路、射頻集成電路等設(shè)計。模擬集成電路包括運算放大器,線性整流器,鎖相環(huán),振蕩電路,有源濾波器等。相較數(shù)字集成電路設(shè)計,模擬集成電路設(shè)計與半導(dǎo)體器件的物理材料性質(zhì)有著更大的關(guān)聯(lián)。數(shù)字集成電路設(shè)計包括系統(tǒng)定義,寄存器傳輸級設(shè)計,物理設(shè)計,設(shè)計過程中的特定時間點,還需要多次進行邏輯功能,時序約束,設(shè)計規(guī)則方面的檢查,調(diào)試,以確保設(shè)計的最終成果合乎最初的設(shè)計收斂目標(biāo)。全球芯片設(shè)計產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀全球芯片設(shè)計產(chǎn)業(yè)龍頭企業(yè)主要分布在美國,中國,臺灣等國家地區(qū),2018年,中國企業(yè)海思半導(dǎo)體首次入圍全球芯片設(shè)計前十企業(yè),營收規(guī)模排名全球第五。從整體來看,美國企業(yè)仍然占據(jù)了絕對主流,前10大芯片設(shè)計公司中有8家都來自美國,其他僅有海思半導(dǎo)體和聯(lián)發(fā)科(中國臺灣)上榜。

2018年全球IC設(shè)計前十企業(yè)設(shè)計前十企業(yè)

排名
企業(yè)
2018年營收(百萬美元)
2017年營收(百萬美元)
同比增長(%)
主營芯片類型
1
Broadcom(博通)
21754
18824
15.6
模擬芯片,邏輯芯片
2
Qualcomm(高通)
16450
17212
-4.4
邏輯芯片,模擬芯片
3
Nvidia(英偉達(dá))
11716
9714
20.6
邏輯芯片
4
Media Tek(聯(lián)發(fā)科)
7894
7826
0.9
邏輯芯片
5
Hisilicon(華為海思)
7573
5645
34.2
邏輯芯片,模擬芯片
6
AMD(超微)
6475
5329
21.5
邏輯芯片
7
Marvell(美滿電子)
2931
2409
21.7
邏輯芯片
8
Xilinx(賽靈思)
2904
2476
17.3
邏輯芯片
9
Novatek
1818
1547
17.6
邏輯芯片
10
Realtek
1519
1370
10.9
邏輯芯片

資料來源:智研咨詢整理

    2018 年全球芯片設(shè)計產(chǎn)業(yè)規(guī)模大約為 1139 億美元,同比增速 14%,過去五年符合增速約為 6.6%。由于近幾年智能手機等終端對于芯片性能和數(shù)量需求的快速提升,全球芯片設(shè)計產(chǎn)業(yè)得以快速增長。特別是隨著整體芯片設(shè)計工藝的持續(xù)升級,芯片設(shè)計產(chǎn)業(yè)充分享受了下游芯片制造大規(guī)模投資的產(chǎn)業(yè)紅利,產(chǎn)業(yè)持續(xù)高速增長。

2012-2018年全球芯片設(shè)計產(chǎn)業(yè)銷售額

資料來源:智研咨詢整理

    根據(jù)智研咨詢發(fā)布的《2020-2026年中國半導(dǎo)體集成電路行業(yè)市場前景規(guī)劃及銷售渠道分析報告》數(shù)據(jù)顯示:2018 年中國芯片設(shè)計產(chǎn)業(yè)規(guī)模為 2519 億元,同比增長 21%,5 年復(fù)合增速 24%,遠(yuǎn)超全球整體復(fù)合增速 6.6%。

2012-2018年中國IC設(shè)計產(chǎn)業(yè)銷售收入走勢圖

資料來源:智研咨詢整理

    國內(nèi)龐大的市場需求,但是中國芯片企業(yè)規(guī)模較小,每年芯片我國進口金額仍然在快速增長,國產(chǎn)芯片設(shè)計企業(yè)具備十分巨大的國產(chǎn)替代市場。除了海思半導(dǎo)體之外,我國IC設(shè)計產(chǎn)業(yè)企業(yè)發(fā)展呈現(xiàn)井噴式增長的勢頭。截至2016年底,我國共有IC設(shè)計企業(yè)1362家,2015年僅有736家,同比增長率高達(dá)85%。我國至今已有11家企業(yè)躋身全球IC設(shè)計企業(yè)前50強。

2018年中國IC設(shè)計前十企業(yè)


排名
企業(yè)
2017年營收(億元)
2018年營收(億元)
同比增長(%)
主營芯片類型
1
海思半導(dǎo)體
387
503
30
邏輯芯片,模擬芯片
2
紫光展銳
110
110
-0.5
邏輯芯片,模擬芯片
3
北京豪威
90
100
10.5
CMOS
4
中興微電子
76
61
-19.7
邏輯芯片,模擬芯片
5
華大半導(dǎo)體
52
60
14.7
邏輯芯片
6
匯頂科技
37
32
-13
模擬芯片
7
北京硅成
25
26.5
5.5
存儲芯片
8
格科微
19
26
39
CMOS
9
紫光國微
18
24
28.5
邏輯芯片,模擬芯片
10
兆易創(chuàng)新
20
23
13.5
存儲芯片

資料來源:智研咨詢整理

    三、集成電路制造產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀

    集成電路(IC,integrated circuit)制造是將設(shè)計成型的集成電路圖實現(xiàn)的過程,在硅片等襯底材料基礎(chǔ)上,通過高尖端設(shè)備,經(jīng)過氧化、光刻、擴散、外延、測試等半導(dǎo)體制造工藝,把構(gòu)成具有一定功能的電路所需的半導(dǎo)體、電阻、電容等元件及它們之間的連接導(dǎo)線全部集成在一小塊硅片上,制備出具備特定功能的集成電路,又稱芯片。

    集成電路,按其功能、結(jié)構(gòu)的不同,可以分為模擬集成電路、數(shù)字集成電路和數(shù)/?;旌霞呻娐啡箢?。模擬集成電路用來產(chǎn)生、放大和處理各種幅度隨時間變化的模擬信號(例如半導(dǎo)體收音機的音頻信號、錄放機的磁帶信號等),其輸入信號和輸出信號成比例關(guān)系。數(shù)字集成電路則是用來產(chǎn)生、放大和處理各種數(shù)字信號。
集成電路制造環(huán)節(jié)現(xiàn)狀制造環(huán)節(jié)現(xiàn)狀隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,投資規(guī)模越來越大,產(chǎn)業(yè)分工越來越明確。產(chǎn)業(yè)龍頭公司逐步從早期的垂直整合生產(chǎn)轉(zhuǎn)向?qū)I(yè)化分工,出現(xiàn)專業(yè)化的芯片設(shè)計公司,專業(yè)的芯片制造公司以及專業(yè)的封裝測試公司。從技術(shù)能力、規(guī)模等角度分析目前全球芯片制造領(lǐng)域的格局。

    目前全球IC代工制造領(lǐng)頭企業(yè)為中國臺灣的臺積電,2018年收入為303.89億美元,占全球前十大IC制造規(guī)模收入比例超過50%。中國大陸企業(yè)在前十位的分別有中芯國際和華虹半導(dǎo)體,2018年收入分別為33.78億美元和9.45億美元,占全球前十大IC制造規(guī)模收入比例分別為5.64%和1.58%。

全球前十大晶圓代工公司收入規(guī)模排名公司收入規(guī)模排名(億美元)

排名
公司名稱
2015年
2016年
2017年
2018年
2018年占比
國家或地區(qū)
1
臺積電
265.74
292.43
328.65
303.89
50.78%
中國臺灣
2
三星
26.7
42.94
43.98
99.50
16.63%
韓國
3
格羅方德
50.19
49.99
54.07
62.09
10.38%
阿聯(lián)酋
4
聯(lián)電
44.64
45.62
50.19
44.56
7.45%
中國臺灣
5
中芯國際
22.36
29.14
31.11
33.78
5.64%
中國
6
高塔半導(dǎo)體
9.61
12.49
13.88
13.11
2.19%
以色列
7
華虹半導(dǎo)體
9.71
7.21
8.07
9.45
1.58%
中國
8
世界先進
-
8.01
8.17
9.59
1.60%
中國臺灣
9
力積電
12.68
8.7
10.35
16.33
2.73%
中國臺灣
10
東部高科
-
6.66
6.76
6.15
1.03%
韓國

資料來源:智研咨詢整理

    技術(shù)水平格局。集成電路的技術(shù)水平核心指標(biāo)是特征尺寸,特征尺寸是指半導(dǎo)體器件中的最小尺寸。特征尺寸越小,芯片的集成度越高,性能越好,功耗越低,公司的制造水平越高。從競爭格局現(xiàn)狀來看,目前國內(nèi)IC制造能力與國際先進比較,制造能力落后5-6年,制程能力相差2代到2.5代。

    隨著進入7nm以及更高制程周期,領(lǐng)頭企業(yè)與追趕企業(yè)的差距在逐步擴大。例如,隨著工藝難度的提升,開發(fā)難度不斷增大,投入資金要求越來越大,格羅方德以及聯(lián)電短期內(nèi)已經(jīng)放棄往7nm制程的升級。

全球主要晶圓制造工廠制程水平

公司名稱
28nm
14nm
7nm
5nm
2nm
目前量產(chǎn)的最先進制程
臺積電
2011年
2016年
2018年
2020年
預(yù)計在2024年
7nm
三星
2012年
2015年
2019年
-
-
10nm
格羅方德
2013年
2015年(三星授權(quán))
2018年宣布不再向12nm以下的制程工藝投入研發(fā)資金
14nm
聯(lián)電
2012年
2017年
2018年宣布退守14nm及以上制程工藝的晶圓代工市場。
14nm
Intel
2011年
2015年
-
-
-
14nm
中芯國際
2017年
預(yù)計2020年
28nm
華虹半導(dǎo)體
2019年
預(yù)計2020年
28nm

資料來源:智研咨詢整理

    提升芯片制造能力的應(yīng)對措施。隨著下游終端產(chǎn)品例如智能手機要求的性能越來越高,高端芯片如華為海思麒麟990芯片、蘋果A12系列芯片、高通驍龍855系列芯片等都采用7nm制程,兩家具備高端制程能力的公司如三星、英特爾等公司由于自身產(chǎn)業(yè)鏈因素,高端制程主要用于自身產(chǎn)品生產(chǎn)。目前大部分高端芯片特別是7nm制程及以上的芯片制造,目前大部分市場主要由臺積電占據(jù)。

    國內(nèi)兩家芯片制造公司中芯國際、華虹半導(dǎo)體都已經(jīng)進入14nm制程的風(fēng)險量產(chǎn)階段,但其核心量產(chǎn)制程僅在28nm,意味著能夠生產(chǎn)市場上60%的芯片。國內(nèi)企業(yè)與國際先進水平企業(yè)仍然存在較大差距,并且未來在進入更高階制程過程中面臨的壓力越來越大。

    四、半導(dǎo)體封測產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀

    半導(dǎo)體封測目前屬于國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中有望率先實現(xiàn)全面國產(chǎn)替代的領(lǐng)域,并且當(dāng)前全球封測市場份額的重心繼續(xù)向國內(nèi)轉(zhuǎn)移。根據(jù)中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會統(tǒng)計,2018年中國集成電路產(chǎn)業(yè)封測業(yè)銷售額達(dá)333億美元,而全球封測行業(yè)2018年約560億美元,中國封測行業(yè)占全球市場份額約達(dá)59%。

2012-2018年全球及中國封測行業(yè)規(guī)模及占比全球及中國封測行業(yè)規(guī)模及占比(億美元)

資料來源:中國半導(dǎo)體協(xié)會、智研咨詢整理

    從封測行業(yè)企業(yè)競爭格局看,雖然全球目前排名前2的公司為日月光和安靠,但中國企業(yè)在國際上已擁有較強競爭力。

    2018年長電科技、華天科技、通富微電三家企業(yè)在全球市場市占率達(dá)17%,且在封裝技術(shù)能力較為全面,掌握了全球較為領(lǐng)先的先進封裝技術(shù),未來有望進一步搶占更多市場份額。

全球主要封測企業(yè)市場份額封測企業(yè)市場份額

資料來源:智研咨詢整理

    從技術(shù)發(fā)展趨勢,目前國際先進封裝技術(shù)發(fā)展趨勢主要有FCBGA(倒裝芯片球柵格陣列的封裝格式)、WLCSP(晶圓級封裝)、FO-WLP(晶圓級扇出封裝)、Sip(系統(tǒng)級封裝)等技術(shù)。這些先進封裝技術(shù)主要應(yīng)用在手機、可穿戴設(shè)備等小型化高附加值電子設(shè)備中。

    目前中國龍頭企業(yè),如長電科技、華天科技已擁有此類先進封裝技術(shù),其技術(shù)水平雖有所落后國際龍頭企業(yè),但差距較小,預(yù)計未來5~8年,有望實現(xiàn)全面趕超。

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