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中國射頻前端涉及的各種工藝發(fā)展分析[圖]

    SOI(Silicon-On-Insulator,絕緣襯底上的硅)技術(shù)是在頂層硅和背襯底之間引入了一層氧化埋層。通過在絕緣體上形成半導(dǎo)體薄膜,SOI材料具有了體硅所無法比擬的優(yōu)點(diǎn):可以實(shí)現(xiàn)集成電路中元器件的介質(zhì)隔離,徹底消除了體硅CMOS電路中的寄生閂鎖效應(yīng)。

SOI基本結(jié)構(gòu)

數(shù)據(jù)來源:公開資料整理

    采用這種材料制成的集成電路具有寄生電容小、集成密度高、速度快、工藝簡單、短溝道效應(yīng)小及特別適用于低壓低功耗電路等優(yōu)勢(shì),因此可以說SOI將有可能成為深亞微米的低壓、低功耗集成電路的主流技術(shù)。從器件結(jié)構(gòu)來看,SOI做成的MOS器件可以大大減小寄生電容,因此MOS晶體管的速度可以很快,這對(duì)于數(shù)字CMOS工藝?yán)鏑PU制程來說也是很關(guān)鍵的。

    目前國內(nèi)使用SOI工藝的芯片廠家數(shù)量相對(duì)較少,只有中芯國際(FD-SOI和FinFET兩種工藝都有)、成都格芯、上海新傲科技和華力微電子(二期晶圓廠)等幾家,主要的工藝種類為FD-SOI。不過,雖然廠家為數(shù)不多,但整體工藝水平卻比較超前,尤其是中芯國際和華力微電子的28nm制程已經(jīng)逼近世界頂尖。

    目前GF已經(jīng)商用45nmRFSOI制程,可以用來制作PA,LNA和TxRx的開關(guān)。相比于硅基襯底不僅減小了寄生電容,fmax也增加了40%。

45nmRFSOI先進(jìn)制程與CMOS制程性能比較

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    受益于在手機(jī)終端上的大量應(yīng)用,幾家SOI大廠都在積極擴(kuò)產(chǎn)。代工廠正增加擴(kuò)產(chǎn)200毫米R(shí)FSOI晶圓廠的產(chǎn)能,以滿足增長5G帶來的射頻前端需求。

    GlobalFoundries,TowerJazz,臺(tái)積電和聯(lián)華電子正在推出300毫米晶圓射頻SOI工藝,以爭奪下一代5G標(biāo)準(zhǔn)射頻業(yè)務(wù)。RFSOI用于為智能手機(jī)和其他產(chǎn)品制作專用RF芯片,如開關(guān)器件和天線調(diào)諧器。RFSOI是絕緣體上硅(SOI)技術(shù)的RF版本,與數(shù)字芯片的全耗盡SOI(FD-SOI)不同。代工廠的SOI硅片主要來自于采購,例如Soitec和其他公司將RFSOI硅片出售給代工廠,后者將其加工成RF芯片。

    Solitec目前是RFSOI硅晶片的最大供應(yīng)商,占比全球市場份額的70%。其他家如Shin-Etsu和GlobalWafers也對(duì)200mm和300mm硅晶片出貨,但是也是基于Solitec的技術(shù)。中國的SOI材料供應(yīng)商有上海新傲科技。根據(jù)調(diào)查數(shù)據(jù)顯示表示,雖然目前的幾家代工廠正在增加300mmRFSOI,但產(chǎn)能依然有限。世界上大約5%的RFSOI產(chǎn)能在300毫米,到2019年預(yù)計(jì)可以增加到20%。根據(jù)調(diào)查數(shù)據(jù)顯示,預(yù)計(jì)到2020年左右,RFSOI晶圓片的出貨量可能達(dá)到200萬片。

    一、GaAs工藝

    砷化鎵半導(dǎo)體材料與傳統(tǒng)的硅材料相比,它的電子移動(dòng)率約為硅材料的5.7倍。它具有很高的電子遷移率、寬禁帶、直接帶隙,消耗功率低的特性。因此,廣泛運(yùn)用于高頻及無線通訊(主要為超過1GHz以上的頻率)。適于制做IC器件。所制出的這種高頻、高速、防輻射的高溫器件,通常應(yīng)用于激光器、無線通信、光纖通信、移動(dòng)通信、GPS全球?qū)Ш降阮I(lǐng)域。砷化鎵除在IC產(chǎn)品應(yīng)用以外,也可加入其它元素改變能帶隙及其產(chǎn)生光電反應(yīng),達(dá)到所對(duì)應(yīng)的光波波長,制作成光電元件。

GaAs器件的應(yīng)用領(lǐng)域

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    在微電子領(lǐng)域中,使用的化合物半導(dǎo)體材料屬于高端產(chǎn)品,主要用于制作無線通訊(衛(wèi)星通訊、移動(dòng)通訊)、光纖通訊、汽車電子等用的微波器件。根據(jù)SA數(shù)據(jù),作為半絕緣砷化鎵下游產(chǎn)業(yè)的砷化鎵集成電路業(yè)市場平均增長近年都在40%以上,盡管砷化鎵分立器件的市場份額在逐步減少,砷化鎵射頻器件市場仍有30%的年增長,加之衛(wèi)星通訊系統(tǒng)和車載雷達(dá)用砷化鎵單晶的潛在市場,半絕緣砷化鎵的需求前景非??春?。

    在GaAs晶圓供應(yīng)方面,住友電工(SumitomoElectric)、弗萊貝格化合物材料(FreibergerCompoundMaterials)、晶體技術(shù)(AXT)三家公司占據(jù)約95%市場份額。目前微電子用砷化鎵晶片市場主要掌握在日本住友電工(SumitomoElectric)、費(fèi)里伯格(FreibergerCompoundMaterials)、日立電線(HitachiCable)和美國AXT等四家大公司手中。主要以生產(chǎn)4、6英寸砷化鎵材料為主。費(fèi)里伯格公司供應(yīng)LEC法生長的3、4、6英寸半絕緣砷化鎵襯底,供應(yīng)VGF法生長的4、6英寸半絕緣砷化鎵襯底。住友供應(yīng)VB法生長的4、6英寸半絕緣砷化鎵襯底。日立電線供應(yīng)LEC法生長的2、3、4、6英寸半絕緣砷化鎵襯底。AXT供應(yīng)VGF法生長的2、3、4、6英寸半絕緣砷化鎵襯底。

GaAs材料主要生產(chǎn)國際廠商

主要廠商
采用工藝
晶體直徑(英寸)
所在國家
住友電工
LCE、VB
4/6
日本
費(fèi)里伯格
LEC、VGF
3/4/6
德國
日立電線
LEC、HB
2/3/4/6
日本
AXT
VGF
2/3/4/6
美國

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    目前中國的砷化鎵材料生產(chǎn)企業(yè)主要以LED用低阻砷化鎵晶片為代表的低端市場為主,利潤率較高的微電子用4~6英寸半絕緣晶片還沒有形成產(chǎn)業(yè)規(guī)模。中國大陸從事砷化鎵材料研發(fā)與生產(chǎn)的公司主要有:北京通美晶體技術(shù)有限公司(AXT)、中科晶電信息材料(北京)有限公司、天津晶明電子材料有限責(zé)任公司(中電集團(tuán)46研究所)、北京中科鎵英半導(dǎo)體有限公司、北京國瑞電子材料有限責(zé)任公司、揚(yáng)州中顯機(jī)械有限公司、山東遠(yuǎn)東高科技材料有限公司、大慶佳昌科技有限公司、新鄉(xiāng)神舟晶體科技發(fā)展有限公司(原國營542廠)等九家。

國內(nèi)GaAs材料主要生產(chǎn)企業(yè)

主要企業(yè)
采用工藝
晶體直徑(英寸)
所在城市
中科晶電信息材料有限公司(北京)
VGF
2/4
北京
天津晶晶明電子材料有限責(zé)任公司
VB/VGF/LEC
2/4
天津
北京中科鎵英半導(dǎo)體有限公司
LEC
2/4
北京
北京國瑞電子材料有限責(zé)任公司
HB
2/2.5
北京
揚(yáng)州中顯機(jī)械有限公司
HB
2/2.5
揚(yáng)州
山東遠(yuǎn)東高科技材料有限公司
LEC(LEVB)
2/3
濟(jì)寧
大慶佳昌科技有限公司
LEC/VGF
2/4
大慶
新鄉(xiāng)神州晶體科技發(fā)展有限公司
HB/LEC
2/3
新鄉(xiāng)

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    砷化鎵在微電子的應(yīng)用范圍,以射頻IC為主。它的產(chǎn)品集中在PA(功率放大器),LNA(低雜訊功率放大器)等通訊元件上,產(chǎn)品廣度遠(yuǎn)不如可應(yīng)用在資訊,通訊及消費(fèi)性電子的硅IC。但基于對(duì)未來無線通訊的成長可期,通訊元件的應(yīng)用范圍會(huì)隨著新通訊產(chǎn)品的推出而倍增,其應(yīng)用領(lǐng)域有移動(dòng)電話,無線電話,無線通訊,微波通訊及衛(wèi)星通訊產(chǎn)品等。這些產(chǎn)品將會(huì)隨著通訊網(wǎng)路的建構(gòu)與普及而需求大增。所以就長期發(fā)展而言,對(duì)砷化鎵IC的需求量也會(huì)愈來愈大。砷化鎵IC在手機(jī)中發(fā)射端的功率放大器(PA)、接收端的低噪聲放大器和高速開關(guān)等,多由GaAsIC承擔(dān)。它是手機(jī)中重要關(guān)鍵性零組件。一只典型的高質(zhì)量手機(jī)通常包含6-7塊GaAsMMIC,因此無線通訊市場的走向?qū)φ麄€(gè)GaAs工業(yè)非常重要。整個(gè)移動(dòng)通訊技術(shù)的發(fā)展更是帶動(dòng)GaAs材料的技術(shù)進(jìn)步與需求增長。

    二、GaN工藝

    氮化鎵技術(shù)可以追溯到1970年代,美國無線電公司(RCA)開發(fā)了一種氮化鎵工藝來制造LED。現(xiàn)在市場上銷售的很多LED就是使用藍(lán)寶石襯底的氮化鎵技術(shù)。除了LED,氮化鎵也被使用到了功率半導(dǎo)體與射頻器件上。

    氮化鎵技術(shù)優(yōu)勢(shì)

    高擊穿場:由于GaN的大帶隙,GaN材料具有高擊穿場,這使得GaN器件能夠在比其他半導(dǎo)體器件高得多的電壓下工作。當(dāng)經(jīng)受足夠高的電場時(shí),半導(dǎo)體中的電子可以獲得足夠的動(dòng)能來破壞化學(xué)鍵(稱為碰撞電離或電壓擊穿的過程)。如果不控制碰撞電離,則會(huì)降低設(shè)備的性能。由于GaN器件可以在更高的電壓下工作,因此它們可以用于更高功率的應(yīng)用。

   高飽和速度:GaN上的電子具有高飽和速度(在非常高的電場下的電子速度)。結(jié)合大電荷能力,這意味著GaN器件可以提供更高的電流密度。RF功率輸出是電壓和電流擺動(dòng)的乘積,因此更高的電壓和電流密度可以在實(shí)際尺寸的晶體管中產(chǎn)生更高的RF功率。簡而言之,GaN器件可以產(chǎn)生更高的功率密度。

    出色的熱性能:GaN-on-SiC器件具有出色的熱性能,這主要?dú)w功于SiC的高導(dǎo)熱性。實(shí)際上,這意味著GaN-on-SiC器件在耗散相同功率時(shí)不會(huì)像GaAs或Si器件那樣熱。“較冷”設(shè)備意味著更可靠的設(shè)備。

    典型的GaN射頻器件的加工工藝主要包括外延生長-器件隔離-歐姆接觸(制作源極、漏極)-氮化物鈍化-柵極制作-場板制作-襯底減薄-襯底通孔等環(huán)節(jié)。

典型的GaN工藝流程

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GaN工藝流程

工藝流程
說明
外延生長
采用金屬氧化物化學(xué)氣相沉積(MOCVD)或分子束外延(MBE)方式在SiC或Si襯底上外延
GaN材料。
器件隔離
采用離子注入或者制作臺(tái)階(去除掉溝道層)的方式來實(shí)現(xiàn)器件隔離。射頻器件之間的隔離
是制作射頻電路的基本要求。
歐姆接觸
形成歐姆接觸是指制作源極和漏極的電極。對(duì)GaN材料而言,制造歐姆接觸需要在很高的溫
度下完成。
氮化物鈍化
在源極和漏極制作完成后,GaN半導(dǎo)體材料需要經(jīng)過鈍化過程來消除懸掛鍵等界面態(tài)。GaN
的鈍化過程通常采用SiN(氮化硅)來實(shí)現(xiàn)。
柵極制作
在SiN鈍化層上開口,然后沉積柵極金屬。至此,基本的場效應(yīng)晶體管的結(jié)構(gòu)就成型了。
場板制作
柵極制作完成后,繼續(xù)沉積額外的幾層金屬和氮化物,來制作場板、互連和電容,此外,也
可以保護(hù)器件免受外部環(huán)境影響。
襯底減薄
襯底厚度減薄至100μm左右,然后對(duì)減薄后的襯底背部進(jìn)行金屬化。
襯底通孔
通孔是指在襯底上表面和下表面之間刻蝕出的短通道,用于降低器件和接地(底部金屬化層)
之間的電感。

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    GaN器件的功率密度是砷化鎵(GaAs)器件的十倍。GaN器件的更高功率密度使其能夠提供更寬的帶寬,更高的放大器增益和更高的效率,這是由于器件外圍更小。

    GaN場效應(yīng)晶體管(FET)器件的工作電壓可以比同類GaAs器件高五倍。由于GaNFET器件可以在更高的電壓下工作,因此設(shè)計(jì)人員可以更輕松地在窄帶放大器設(shè)計(jì)上實(shí)現(xiàn)阻抗匹配。阻抗匹配是以這樣的方式設(shè)計(jì)電負(fù)載的輸入阻抗的實(shí)踐,其最大化從設(shè)備到負(fù)載的功率傳輸。

    GaNFET器件的電流是GaAsFET器件的兩倍。由于GaNFET器件可提供的電流是GaAsFET器件的兩倍,因此GaNFET器件具有更高的帶寬能力。大部分的半導(dǎo)體器件對(duì)于溫度的變化都是非常敏感的,為了保證可靠性,半導(dǎo)體的溫度變化必須被控制在一定范圍內(nèi)。熱管理對(duì)于RF系統(tǒng)來說尤其重要,因?yàn)樗鼈儽旧砟芰繐p耗就比較高,會(huì)帶來比較嚴(yán)重的散熱問題。GaN在保持低溫方面有其獨(dú)特優(yōu)勢(shì),另外即使在溫度較高的情況下,相比于硅其性能影響較小。例如100萬小時(shí)失效時(shí)間中位數(shù)MTTF顯示,GaN比GaAs的工作溫度可以高50攝氏度。

GaAs與GaN的可靠性比較

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    綜合成本、生產(chǎn)也研發(fā)時(shí)間以及GaN的獨(dú)特性能,已經(jīng)成為了高功率射頻和微波放大器的首選。同時(shí)GaN工藝還適合制作寬帶PA和低噪放。

    與其他半導(dǎo)體(如Si和GaAs)相比,GaN是一種相對(duì)較新的技術(shù),但它已成為高射頻,高耗電應(yīng)用的首選技術(shù),如長距離或高端功率傳輸信號(hào)所需的應(yīng)用(如雷達(dá),基站收發(fā)信臺(tái)[BTS],衛(wèi)星通信,電子戰(zhàn)[EW]等)。根于Yole的預(yù)測,在通信和國防應(yīng)用的推動(dòng)下RFGaN產(chǎn)業(yè)在2017年至2023年期間的復(fù)合年增長率將會(huì)達(dá)到的23%。截至2017年底R(shí)FGaN市場總量接近3.8億美元,2023年將達(dá)到13億美元以上?;赗F的GaN技術(shù)也在不斷創(chuàng)新以滿足工業(yè)界需求。國防應(yīng)用是RFGaN的主要市場領(lǐng)域,這是因?yàn)镚aN產(chǎn)品具有專業(yè)的高性能要求和低價(jià)格優(yōu)勢(shì)。2017-2018年間,國防應(yīng)用占GaN射頻市場總量的35%以上,目前全球國防市場在GaN領(lǐng)域沒有放緩跡象。

2023年RFGaN器件市場預(yù)測

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    從專利角度看,住友電工是RFGaN器件的市場的領(lǐng)軍者,但是相比于Cree仍然有不小差距。住友電工在專利方面目前有所放緩,而其他日本公司如富士通,東芝和三菱電機(jī)正在增加其專利申請(qǐng),目前也擁有強(qiáng)大的專利組合。英特爾和MACOM目前是RFGaN領(lǐng)域最活躍申請(qǐng)專利的兩家公司,尤其是GaN-on-Silicon技術(shù),如今這兩家公司在RFGaN專利領(lǐng)域擁有重要IP。參與RFGaN市場的其他公司,如Qorvo,Raytheon,NorthropGrumman,恩智浦/飛思卡爾和英飛凌,擁有一些關(guān)鍵專利,但知識(shí)產(chǎn)權(quán)地位仍然相對(duì)薄弱。中國電子科技集團(tuán)和西安電子科技大學(xué)在中國專利領(lǐng)域占主導(dǎo)地位,擁有針對(duì)微波和毫米波應(yīng)用的GaN射頻技術(shù)專利。中國公司HiWafer作為新興的代工廠,也逐漸在GaN專利方面占有一席之地??傮w來說,RFGaN領(lǐng)域方面,依然是被美國和日本公司主導(dǎo)。

    相關(guān)報(bào)告:智研咨詢發(fā)布的《2019-2025年中國射頻前端模塊行業(yè)市場研究及投資前景預(yù)測報(bào)告

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