1、離子注入機(jī)政策環(huán)境分析
離子注入機(jī)是高壓小型加速器中的一種,應(yīng)用數(shù)量最多。它是由離子源得到所需要的離子,經(jīng)過(guò)加速得到幾百千電子伏能量的離子束流,用做半導(dǎo)體材料、大規(guī)模集成電路和器件的離子注入,還用于金屬材料表面改性和制膜等。
常用的生產(chǎn)型離子注入機(jī)主要有三種類型:低能大束流離子注入機(jī)、高能離子注入機(jī)和中低束離子注入機(jī)。這些離子注入機(jī)的運(yùn)行原理基本相似,但是注入計(jì)量范圍和具體在工藝中的主要應(yīng)用各有不同。
離子注入機(jī)類型
離子注入機(jī)類型 | 能量范圍 | 注入劑量范圍 | 工藝中的主要應(yīng)用 |
低能大束流離子注入機(jī) | 離子束流電流大于10mA,極值為25mA,束流能量小于120keV | 1013-1016cm-2 | 超淺結(jié)、源漏注入、多晶硅柵極注入等 |
高能離子注入機(jī) | 束流能量超過(guò)200keV,極值在5MeV左右 | 1011-1013cm-2 | 深埋層等 |
中低束流離子注入機(jī) | 離子束電流大于10mA,束流能量小于180keV | 1011-1017cm-2 | 柵閾值調(diào)整、輕摻雜漏區(qū)、SIMOX、SmartCut穿透阻擋層等 |
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離子注入機(jī)是芯片制造中的關(guān)鍵裝備。在芯片制造過(guò)程中,需要摻入不同種類的元素按預(yù)定方式改變材料的電性能,這些元素以帶電離子的形式被加速至預(yù)定能量并注入至特定半導(dǎo)體材料中,離子注入機(jī)即是執(zhí)行這一摻雜工藝的芯片制造設(shè)備。
從政策環(huán)境上來(lái)看,我國(guó)對(duì)于離子注入機(jī)行業(yè)較為重視。其主要表現(xiàn)在將離子注入機(jī)在多項(xiàng)政策中列為推薦發(fā)展的關(guān)鍵設(shè)備。如《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推薦綱要》中明確提出,要離子注入機(jī)作為關(guān)鍵設(shè)備進(jìn)行研發(fā);《首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄》(2019年版)也將中束流、大束流、高能離子注入機(jī)等離子注入機(jī)列入了名錄。
中國(guó)離子注入機(jī)行業(yè)主要政策規(guī)劃
政策 | 相關(guān)內(nèi)容 |
《首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄》(2019年版) | 將高效N型晶體硅太陽(yáng)能電池離子注人機(jī)等太陽(yáng)能電池生產(chǎn)生產(chǎn)裝備,以及中束流、大束流、高能離子注人機(jī)等離子注人機(jī)列入名錄。 |
《戰(zhàn)咯性新興產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)產(chǎn)品和服務(wù)指導(dǎo)目錄》 | 主要包括6英寸/8英寸/12英寸集成電路生產(chǎn)線所用的離子注入機(jī)。 |
《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推薦綱要》 | 憲破集成電路關(guān)鍵裝備和材料加薄集成電路裝備;離子注入機(jī)作為關(guān)鍵設(shè)備進(jìn)行研發(fā)。 |
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高能離子注入機(jī)是離子注入機(jī)中技術(shù)難度最大的機(jī)型。長(zhǎng)久以來(lái),因其極大的研發(fā)難度和較高的行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)壁壘,被稱為離子注入機(jī)領(lǐng)域的“珠穆朗瑪峰”,是我國(guó)集成電路制造裝備產(chǎn)業(yè)鏈上亟待攻克的關(guān)鍵一環(huán)。
《首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄》(2019年版)離子注入機(jī)應(yīng)用技術(shù)指標(biāo)
領(lǐng)域 | 產(chǎn)品名稱 | 技術(shù)指標(biāo) |
集成電路生產(chǎn)裝備 | 離子注入機(jī) | (1)中束流離子注入機(jī):晶圓尺寸≤300mm;單片注入模式,硅片傳輸效率≥450pcs/h;注入均勻性≤0.5%;注入重復(fù)性≤0.5%;能量范圍:2~900keV; (2)大束流離子注入機(jī):晶圓尺寸≤300mm;單片注入模式,硅片傳輸效率≥450pcs/h;注入均勻性≤1%;注入重復(fù)性≤1%;能量范圍:200~50keV; (3)高能離子注入機(jī):晶圓尺寸≤300mm;單片注入模式,硅片傳輸效率≥450pcs/h;注入均勻性≤0.5%;注入重復(fù)性≤0.5%;能量范圍:2~1500keV |
平板顯示器生產(chǎn)裝備 | LTPS薄膜晶體管離子注入機(jī) | 基片尺寸≥1500mm×1800mm;機(jī)械傳輸產(chǎn)能≥58面板/小時(shí)(2次掃描);X射線(80keV):600nSv/h;離子種類:磷、硼 |
太陽(yáng)能電池生產(chǎn)裝備 | 高效N型晶體硅太陽(yáng)能電池離子注入機(jī) | 生產(chǎn)能力≥3000pcs/h;注入劑量:5e14~5e16/cm2;兼容硅片尺寸:156.75~161.75mm;兼容硅片厚度:120~180μm;磷源:固態(tài)紅磷(0.29分/片) |
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2、離子注入機(jī)產(chǎn)量、需求量、市場(chǎng)規(guī)模分析
智研咨詢發(fā)布的《2021-2027年中國(guó)離子注入機(jī)行業(yè)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀分析及供需格局預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示:2020年我國(guó)離子注入機(jī)產(chǎn)量為26臺(tái),2016年以來(lái)產(chǎn)量復(fù)合增長(zhǎng)率為59.67%;2020年我國(guó)離子注入機(jī)需求為256臺(tái),2016年以來(lái)需求復(fù)合增長(zhǎng)率為13.00%。
2016-2020年中國(guó)離子注入機(jī)產(chǎn)量、需求量統(tǒng)計(jì)
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近年來(lái),隨著凱世通等國(guó)內(nèi)生產(chǎn)商研發(fā)生產(chǎn)能力的提升,我國(guó)光伏領(lǐng)域離子注入機(jī)基本實(shí)現(xiàn)進(jìn)口替代,并逐步向集成電路領(lǐng)域滲透。2016年我國(guó)離子注入機(jī)市場(chǎng)規(guī)模為23.22億元,2020年我國(guó)離子注入機(jī)市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到44.53億元,2016年以來(lái)我國(guó)離子注入機(jī)規(guī)模復(fù)合增速為17.68%。
2016-2020年中國(guó)離子注入機(jī)市場(chǎng)規(guī)模
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2020年我國(guó)離子注入機(jī)市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到了445315萬(wàn)元,其中集成電路領(lǐng)域規(guī)模達(dá)到了432400萬(wàn)元,同比增長(zhǎng)54.10%,光伏及其他領(lǐng)域達(dá)到了12915萬(wàn)元,同比增長(zhǎng)24.13%,離子注入機(jī)行業(yè)兩大市場(chǎng)存在一定的分化,主要是由于下游行業(yè)景氣程度不一,投資規(guī)模變動(dòng)較大導(dǎo)致,但總體呈現(xiàn)出明顯的增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。
2016-2020年中國(guó)離子注入機(jī)細(xì)分市場(chǎng)規(guī)模
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從細(xì)分領(lǐng)域來(lái)看,2020年離子注入機(jī)集成電路領(lǐng)域市場(chǎng)規(guī)模占比達(dá)97.1%,其他領(lǐng)域市場(chǎng)規(guī)模占比為2.9%。
2020年中國(guó)離子注入機(jī)細(xì)分市場(chǎng)結(jié)構(gòu)
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3、離子注入機(jī)競(jìng)爭(zhēng)格局
全球離子注入機(jī)的領(lǐng)先企業(yè)主要分布在美國(guó)、日本和中國(guó),其中,中國(guó)大陸擁有中科信和凱世通兩家離子注入機(jī)行業(yè)的龍頭企業(yè),其中凱世通在光伏離子注入機(jī)方面遙遙領(lǐng)先。而美國(guó)則擁有近乎壟斷IC離子注入機(jī)市場(chǎng)的應(yīng)用材料,以及漢辰科技、Axcelis、intevac等企業(yè)。日本也擁有日新、日本真空、住友重工等離子注入機(jī)知名廠商。
離子注入機(jī)行業(yè)領(lǐng)先企業(yè)
國(guó)家和地區(qū) | 廠家 | 產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域 |
中國(guó)大陸 | 凱世通 | 太陽(yáng)能、集成電路、AMOLED |
北京中科信電子裝備有限公司 | 集成電路 | |
美國(guó) | 漢辰科技 | 集成電路 |
應(yīng)用材料 | 集成電路 | |
Axcelis | 集成電路 | |
intevac | 太陽(yáng)能、集成電路 | |
日本 | 日新離子機(jī) | AMOLED |
日本真空 | 太陽(yáng)能、集成電路 | |
住友重工 | 集成電路 |
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隨著集成電路工藝技術(shù)的持續(xù)提升,晶體管不斷縮小,集成電路制程進(jìn)一步向尖端工藝發(fā)展,這對(duì)相關(guān)生產(chǎn)制造設(shè)備也提出了更高的要求。2020年凱世通獲得多個(gè)不同類型的12英寸低能大束流離子注入機(jī)和高能離子注入機(jī)訂單,集成電路離子注入機(jī)產(chǎn)品已進(jìn)入客戶驗(yàn)證階段。
2020年凱世通離子注入機(jī)產(chǎn)品進(jìn)展
領(lǐng)域 | 進(jìn)展 |
集成電路領(lǐng)域 | 2020年9月,凱世通的集成電路離子注入機(jī)產(chǎn)品搬入12英寸主流集成電路晶圓廠客戶,并進(jìn)入產(chǎn)線驗(yàn)證階段,預(yù)計(jì)首臺(tái)設(shè)備有望在2021年二季度完成客戶端的驗(yàn)證工作。 2020年12月,凱世通子公司北京凱世通半導(dǎo)體有限公司(簡(jiǎn)稱“北京凱世通”)同芯成科技(紹興)有限公司簽署了3個(gè)12英寸集成電路設(shè)備訂單,目前正在依據(jù)交付目標(biāo)制訂生產(chǎn)計(jì)劃并積極推進(jìn),其中低能大束流重金屬離子注入機(jī)組裝目前完成95%,其余兩臺(tái)設(shè)備為低能大束流超低溫離子注入機(jī)和高能離子注入機(jī),長(zhǎng)交期零部件采購(gòu)訂單已發(fā)出,公司將按照客戶訂單約定時(shí)間交付。2020年北京凱世通共取得4個(gè)集成電路離子注入機(jī)設(shè)備訂單。 |
光伏領(lǐng)域 | 為了滿足客戶對(duì)設(shè)備產(chǎn)能與綜合性價(jià)比的需求,凱世通開(kāi)發(fā)了新一代iPV6000光伏離子注入機(jī)產(chǎn)品,實(shí)際該機(jī)產(chǎn)能較前一代iPV3000光伏離子注入機(jī)基礎(chǔ)上再提升50%。2020年已基本完成iPV6000產(chǎn)品的驗(yàn)證工作,若能順利通過(guò)全部驗(yàn)證,將會(huì)進(jìn)一步提升凱世通在光伏離子注入機(jī)市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)力。 |
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2025-2031年中國(guó)離子注入機(jī)行業(yè)市場(chǎng)調(diào)查研究及未來(lái)趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告
《2025-2031年中國(guó)離子注入機(jī)行業(yè)市場(chǎng)調(diào)查研究及未來(lái)趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告》共十四章,包含2025-2031年中國(guó)離子注入機(jī)行業(yè)投資機(jī)會(huì)與風(fēng)險(xiǎn)分析,2025-2031年中國(guó)離子注入機(jī)行業(yè)投資戰(zhàn)略研究,研究結(jié)論及投資建議等內(nèi)容。
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