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2019年中國(guó)半導(dǎo)體硅片現(xiàn)狀、各種尺寸硅片需求及國(guó)產(chǎn)硅片發(fā)展前景分析[圖]

    硅極少以單質(zhì)的形式存在于自然界中,但在巖石、砂礫、塵土之中其以硅酸鹽或二氧化硅的形式廣泛存在。在地殼中,硅是第二豐富的元素,其構(gòu)成地殼總質(zhì)量的 26.4%。

    晶圓制造是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中重要一環(huán),生產(chǎn)過(guò)程中會(huì)涉及多種材料。2018 年全球半導(dǎo)體材料銷售額達(dá)到 519 億美元,增長(zhǎng) 10.6%,其中晶圓制造材料和封裝材料的銷售額分別為 322 億美元和 197 億美元,同比增長(zhǎng)率分別為 15.9%和 3.0%。根據(jù)細(xì)分產(chǎn)品銷售情況,2018 年硅片占晶圓制造材料市場(chǎng)比值為 38%,比重為相關(guān)材料市場(chǎng)第一位。所以,硅片作為半導(dǎo)體生產(chǎn)重要原材料之一,硅片制備技術(shù)將對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展產(chǎn)生一定的影響。

    一、半導(dǎo)體硅片

    首先通過(guò)提純硅氧化得到多晶硅,其后通過(guò)單晶硅生長(zhǎng)工藝得到硅片原始材料單晶錠,再通過(guò)切片、研磨、拋光等硅片制造工藝得到拋光硅片。通過(guò)對(duì)拋光硅片進(jìn)行特殊工藝處理,可得到退火片、外延片等具備特殊性能硅片。

    單晶硅是由單一籽晶生長(zhǎng)的單晶體硅材料,它具有晶格完整、缺陷和雜質(zhì)很少等特點(diǎn)。根據(jù)單晶硅生長(zhǎng)方式進(jìn)行分類,可將其分為區(qū)熔單晶硅(FZ-Si)和直拉單晶硅(CZ-Si),其中所涉及的工藝為區(qū)熔法和直拉法。相較于區(qū)熔法,直拉法能支持 12 英寸等大尺寸硅片生產(chǎn),而區(qū)熔法則用于 8 英寸及以下尺寸硅片生產(chǎn)。所以,直拉法是目前較為主流長(zhǎng)晶工藝。

    直拉法主要工藝包括多晶硅原料裝料、多晶硅融化、種晶、縮頸、放肩、等徑生長(zhǎng)和收尾等。直拉法制備工藝是通過(guò)加熱放置于坩堝內(nèi)的多晶硅原料使其成為溶液,并通過(guò)安置在爐體上方的籽晶軸,使得單晶晶種能與硅溶液進(jìn)行接觸。通過(guò)籽晶軸轉(zhuǎn)動(dòng)和上下移動(dòng),硅液會(huì)沿著籽晶表面凝結(jié)和生長(zhǎng),最終形成單晶錠。隨著直拉法工藝不斷深入,基于基礎(chǔ)工藝的新工藝在持續(xù)開發(fā),目前已開發(fā)出磁控直拉單晶生長(zhǎng)、連續(xù)加料直拉單晶硅生長(zhǎng)和重裝料直拉單晶生長(zhǎng)等工藝。

    為滿足不同器件制備的要求,在晶體生長(zhǎng)時(shí)需要摻入微量電學(xué)性的雜質(zhì)(摻雜劑)。其中 P 型半導(dǎo)體,硼(B)是最常用的摻雜劑;而對(duì)于 N 型半導(dǎo)體,磷(P)、砷(As)和銻(Sb)都可以作為摻雜劑。除摻雜劑外,一般情況下在直拉過(guò)程中需要避免雜質(zhì)引入,否則將影響單晶硅、器件的性能和質(zhì)量。由于單晶硅生長(zhǎng)情況對(duì)于硅片生產(chǎn)影響較大,所以單晶硅生長(zhǎng)技術(shù)在硅片生產(chǎn)中是關(guān)鍵技術(shù)之一。

    硅片制造工藝實(shí)現(xiàn)從“錠”到“片”轉(zhuǎn)換。當(dāng)完成單晶硅生長(zhǎng)工藝后,需要通過(guò)硅片制造技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)硅片生產(chǎn)。根據(jù)生產(chǎn)流程,單晶硅錠需要通過(guò)切斷、切片、研磨、拋光、清洗五大步驟從而得到拋光硅片。其中,通過(guò)切斷得到適合切片的晶棒;切片是將晶棒切成具有一定厚度和平整度的硅片;研磨工藝,可去除硅片切片表面殘留的損傷層,并使硅片具有一定的幾何精度;拋光工藝,通過(guò)化學(xué)和機(jī)械作用,去除硅片表面殘留的微缺陷和損傷層,獲得硅拋光片;硅片清洗是去除硅片表面各種沾污。通過(guò)這一系列加工工藝后,可得到拋光硅片。

    拋光硅片是目前應(yīng)用范圍最廣、最基礎(chǔ)的硅片,以拋光片為基礎(chǔ)進(jìn)行二次加工可得到具有特殊性能的硅片。退火片制作工藝是一個(gè)升溫再降溫的過(guò)程,通過(guò)將拋光片置于氫或氬氣中加熱,隨即進(jìn)入到退火過(guò)程。與拋光片相比,其表面含氧量大幅減少,從而擁有更好的晶體完整性。外延片通常采用化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù),反應(yīng)原理為硅的氣態(tài)化合物在硅片表面發(fā)生反應(yīng),并以單晶薄膜的形態(tài)沉積在硅襯底表面。SOI 硅片具有三層結(jié)構(gòu),自上而下分別為頂層硅片(SOI 層)、氧化層和硅襯底;目前,氫注入剝離鍵合技術(shù)(Smart-Cut)、硅片直接鍵合技術(shù)(SDB)和注氧隔離技術(shù)(SIMOX)是三個(gè)最具有競(jìng)爭(zhēng)力的 SOI 制備技術(shù);由于 SOI 硅片具有氧化層,從而減少硅片的寄生電容以及漏電現(xiàn)象。具有特殊性能的硅片能滿足不同應(yīng)用場(chǎng)景需求,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中不可或缺的一部分。

    二、硅片尺寸

    隨著單晶硅制造技術(shù)提升,硅片的尺寸在逐步提升。硅片尺寸從最初 2 英寸,到 4 英寸,5 英寸,6 英寸,8 英寸,再到 12 英寸,其尺寸在持續(xù)增加。目前,硅片發(fā)展史具有多種表述。其中,據(jù) SEMI 相關(guān)產(chǎn)品數(shù)據(jù),4 英寸硅片產(chǎn)生于 1986年,6 英寸產(chǎn)生于 1992 年,8 英寸產(chǎn)生于 1997,12 英寸產(chǎn)生于 2005 年。而行業(yè)內(nèi)根據(jù)各尺寸硅片市場(chǎng)占比情況進(jìn)行劃分,4 英寸、6 英寸和 8 英寸分別為 1980 年代、1990 年代和 2000 年代占據(jù)主流位置;而 12 英寸硅片產(chǎn)線是英特爾和 IBM 于 2002 年首先建成,而到 2005 年 12 英寸產(chǎn)品市場(chǎng)占比達(dá)到 20%且市場(chǎng)占比持續(xù)增大。

    自 2005 年起 12 英寸硅片被大規(guī)模使用以來(lái)至今已超過(guò) 10 年,在硅片向大尺寸發(fā)展的背景下,硅片產(chǎn)品理應(yīng)進(jìn)行迭代。18 英寸硅片是下一代技術(shù)節(jié)點(diǎn),以英特爾、臺(tái)積電等廠商和學(xué)校為首的相關(guān)研發(fā)專案已經(jīng)取得了一定進(jìn)展,但因不具備生產(chǎn)效益而有所擱置。所以,12 英寸硅片尚未受到產(chǎn)品迭代所帶來(lái)的影響,有望在較長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi)保持市場(chǎng)地位。

2015-2021 年全球 12 寸硅片市場(chǎng)占比及預(yù)測(cè)

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    目前,集成電路發(fā)展兩條技術(shù)主線是硅片尺寸擴(kuò)大和芯片制程技術(shù)提升。其中,硅片尺寸擴(kuò)大能有效降低成本,而這也成為硅片向大尺寸發(fā)展的重要推力。以 8 英寸和 12 英寸硅片為例,12 英寸硅片較 8 英寸在面積上提升約 2.25 倍。由于可用生產(chǎn)面積擴(kuò)大,使得單硅片芯片產(chǎn)出數(shù)量也有所差異,其中,8 英寸硅片產(chǎn)出約為 88 塊,而 12 英寸硅片產(chǎn)出約為 232 塊,12 英寸硅片產(chǎn)出較 8英寸硅片提升約 2.64 倍,產(chǎn)出增長(zhǎng)較硅片面積增長(zhǎng)更多。此外,由于邊緣芯片減少,產(chǎn)品成品率將上升,使得產(chǎn)出會(huì)更高。在芯片生產(chǎn)過(guò)程中由于產(chǎn)出更高,使得設(shè)備使用率提升。所以,無(wú)論是從產(chǎn)量,還是從設(shè)備使用率角度,大硅片能使芯片生產(chǎn)成本下降,使得晶圓代工廠利潤(rùn)增厚,從而間接推動(dòng)硅片向大尺寸發(fā)展。

    各種需求促生對(duì)不同尺寸硅片需求。不同尺寸硅片在應(yīng)有場(chǎng)景中有所差異,下游對(duì)于硅片需求主要集中在 8、12 英寸。目前,12 英寸硅片主要應(yīng)用于制造智能終端中邏輯芯片和存儲(chǔ)芯片等,而 8 英寸硅片主要應(yīng)用于汽車電子、工業(yè)自動(dòng)化和指紋識(shí)別等集成電路制造領(lǐng)域,6 英寸及以下尺寸硅片主要應(yīng)用于低端產(chǎn)品。所以,在不同領(lǐng)域應(yīng)用不同尺寸的硅片,從而形成不同的需求。

    三、需求

    硅片是晶圓制造上游材料,晶圓廠產(chǎn)能情況對(duì)硅片需求將產(chǎn)生影響。根據(jù) SEMI 數(shù)據(jù),硅片出貨量存在一定周期性,2019 年硅片出貨量有所下滑,但情況有望得到好轉(zhuǎn)。受消費(fèi)升級(jí)和數(shù)據(jù)流量爆發(fā)等因素誘發(fā),終端市場(chǎng)持續(xù)向好,而需求沿著產(chǎn)業(yè)鏈向上游傳遞。在硅片向大尺寸發(fā)展的趨勢(shì)中,8 英寸和 12 英寸硅片作為主流硅片產(chǎn)品,在終端市場(chǎng)帶動(dòng)下需求將持續(xù)擴(kuò)大。預(yù)計(jì),2020年半導(dǎo)體總發(fā)貨量將增長(zhǎng) 7%,達(dá)到 10,363 億個(gè),這將是有史以來(lái)半導(dǎo)體總發(fā)貨量第二次超過(guò)一萬(wàn)億個(gè)單位。而在 2020 年半導(dǎo)體出貨量中,預(yù)計(jì)光電器件、傳感器和分立器這三項(xiàng)占 69%,集成電路占 31%。此外,2020 年增長(zhǎng)率最高的半導(dǎo)體細(xì)分領(lǐng)域場(chǎng)景包括智能手機(jī)、汽車電子以及人工智能、云和“大數(shù)據(jù)”系統(tǒng)、深度學(xué)習(xí)應(yīng)用程序。

2007年至2019年全球硅片面積出貨量(百萬(wàn)平方英寸)

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2020 年半導(dǎo)體出貨量占比

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    1、12 英寸硅片

    目前,12 英寸硅片在下游產(chǎn)業(yè)中廣泛應(yīng)用,產(chǎn)品大多使用于制造消費(fèi)電子芯片。根據(jù) 12 英寸晶圓制造精度進(jìn)行分類,可分為先進(jìn)制程和成熟制程。隨著晶圓廠制程不斷提升,將增加高質(zhì)量 12 英寸大硅片需求。除晶圓制程提升外,終端市場(chǎng)向好是拉動(dòng)硅片需求上升的動(dòng)力。

    由于 5G 通信能支持增強(qiáng)移動(dòng)寬帶(eMBB)、高可靠低時(shí)延連接(uRLLC)和海量物聯(lián)(eMTC)三大應(yīng)用場(chǎng)景,其對(duì)社會(huì)發(fā)展具備重要意義。所以,各國(guó)對(duì)于 5G 網(wǎng)絡(luò)建設(shè)都較為重視。而對(duì)于普通消費(fèi)者而言,4G 手機(jī)無(wú)法支持 5G 網(wǎng)絡(luò),若想使用 5G 網(wǎng)絡(luò)其需要對(duì)終端設(shè)備進(jìn)行升級(jí)。所以,在通信升級(jí)時(shí)代將會(huì)出現(xiàn)手機(jī)換機(jī)潮。IDC 預(yù)計(jì),2020 年 5G 智能手機(jī)出貨量將占智能手機(jī)總出貨量的 8.9%,到 2023 年,這一比例將增長(zhǎng)至 28.1%。根據(jù)目前各大手機(jī)廠商所推出 5G 產(chǎn)品數(shù)據(jù),大部分手機(jī) NAND 容量為 128G 起,容量較 4G 手機(jī)有一倍的提升。手機(jī)對(duì)于存儲(chǔ)芯片需求將會(huì)逐步顯現(xiàn)。此外,數(shù)據(jù)流量爆發(fā)將增加數(shù)據(jù)中心需求,2016-2021 年全球數(shù)據(jù)中心流量復(fù)合增速將達(dá) 25%;而云數(shù)據(jù)中心流量增速將會(huì)更快,年復(fù)合增長(zhǎng)率為 27%。數(shù)據(jù)流量爆發(fā)使得相關(guān)廠商會(huì)加大對(duì)服務(wù)器等基礎(chǔ)設(shè)施投入。由于服務(wù)器等基礎(chǔ)設(shè)施中需要使用到固態(tài)硬盤,而硬盤是 NAND Flash重要應(yīng)用場(chǎng)景之一,所以這將會(huì)激發(fā) NAND Flash 需求上升。Gartner 預(yù)計(jì) NAND 復(fù)蘇將在 2020 年繼續(xù),這是由于固態(tài)硬盤的強(qiáng)勁需求以及 5G 智能手機(jī)的大量增加使低位供應(yīng)增長(zhǎng)所致。

NAND 閃存應(yīng)用份額

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2018 年 12 英寸硅片下游應(yīng)用占比

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    DRAM 作為電子產(chǎn)品重要組件之一,在 AI 和 5G 兩大應(yīng)用的拉動(dòng)下,景氣度有望持續(xù)好轉(zhuǎn)。根據(jù) 2018 年 12英寸硅片下游應(yīng)用占比數(shù)據(jù),存儲(chǔ)芯片(DRAM、2D NAND、3D NAND)占比已超過(guò)50%。所以,無(wú)論是 NAND Flash,還是 DRAM,在終端設(shè)備需求持續(xù)向好將會(huì)沿產(chǎn)業(yè)鏈傳導(dǎo)到存儲(chǔ)芯片,從而使得晶圓廠對(duì)硅片需求上升。

    2、8 英寸硅片

    8 英寸晶圓制造技術(shù)依舊保持競(jìng)爭(zhēng)力。12 英寸晶圓廠進(jìn)入門檻較高,對(duì)于環(huán)境和設(shè)備等要求較為苛刻,所以其產(chǎn)品主要為精密制程的電子產(chǎn)品。而在制程等要求較低或?qū)Τ杀据^為敏感的產(chǎn)品,一般使用 8 英寸或 6 英寸硅片進(jìn)行生產(chǎn)。但隨著 6 英寸產(chǎn)品逐步向 8英寸轉(zhuǎn)移,8 英寸晶圓廠將承接部分產(chǎn)品生產(chǎn)需求。此外,由于 8 英寸晶圓已具備成熟特種工藝,在小尺寸晶粒模擬內(nèi)容容量或高電壓支持具備優(yōu)勢(shì),所以對(duì)于具備特殊要求的器件大部分仍以 8 英寸晶圓制造為主。根據(jù) 8 英寸硅片下游應(yīng)用數(shù)據(jù),功率分立器件、MEMS、模擬、CIS、射頻等產(chǎn)品是主要應(yīng)用方向。

2018 年 8 英寸硅片下游應(yīng)用占比

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    隨著新能源汽車和工業(yè)智能裝備等快速普及,對(duì)于模擬和分立器件的需求在逐步加大,而這使得汽車電子和工業(yè)控制領(lǐng)域在相關(guān)領(lǐng)域市場(chǎng)份額擴(kuò)大,下游景氣度提升也將傳導(dǎo)到上游產(chǎn)業(yè)。自 2018 年 7 月以來(lái),全球增加了 7 個(gè) 200mm 新廠房。而在接下來(lái)的 2019 年到 2022 年間,全球預(yù)計(jì)總共將有 16 個(gè)廠房或產(chǎn)線,其中 14 個(gè)為批量 Fab 廠。預(yù)測(cè),到 2022 年全球200mm 晶圓制造廠的總產(chǎn)能達(dá)到每月 650 萬(wàn)片晶圓。隨著電動(dòng)車、5G 等市場(chǎng)的發(fā)展,MEMS、感測(cè)、模擬與微控制元件等在物聯(lián)網(wǎng)、移動(dòng)裝置的應(yīng)用發(fā)展將持續(xù)延伸,帶動(dòng)8 英寸晶圓的市場(chǎng)需求。

    四、趨勢(shì)

    2019 年銷售額有所回落,但在終端市場(chǎng)持續(xù)向好推動(dòng)下,銷售額有望扭轉(zhuǎn)跌勢(shì)。從市場(chǎng)份額來(lái)看,2017 年全球五大硅晶圓供貨商為日本信越(市占率 27.58%)、日本勝高(市占率 24.33%),臺(tái)灣環(huán)球晶圓(市占率 16.28%)、德國(guó) Silitronic(市占率 14.22%)、韓國(guó) SK Siltron(市占率 10.16%),前五大公司市占率超過(guò) 90 %。由于硅片具有較高技術(shù)壁壘,所以導(dǎo)致硅片市場(chǎng)集中度較高且硅片尺寸越大,市場(chǎng)集中度越高。

2009-2019 年全球硅片銷售(單位:十億美元)

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2018 年全球硅片市場(chǎng)份額

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    我國(guó)作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)第三次轉(zhuǎn)移轉(zhuǎn)入國(guó),半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)得到快速發(fā)展。2016 年我國(guó)半導(dǎo)體銷售額為 1056.5 億美元,而 2019 年銷售額為 1436.7 億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率為 10.79%。此外,我國(guó)在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模份額持續(xù)擴(kuò)大。目前,中國(guó)是全球最大的消費(fèi)電子產(chǎn)品生產(chǎn)國(guó)、出口國(guó)和消費(fèi)國(guó),2018 年,中國(guó)手機(jī)、計(jì)算機(jī)和彩電產(chǎn)量占到全球總產(chǎn)量的 90%、90%和 70%以上,均穩(wěn)居全球首位。在生產(chǎn)過(guò)程中半導(dǎo)體產(chǎn)品需求較大。所以,基于產(chǎn)業(yè)鏈安全等因素考慮,無(wú)論是半導(dǎo)體產(chǎn)品,還是半導(dǎo)體材料均有國(guó)產(chǎn)替代需求。

全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模(單位:十億美元)及中國(guó)占比

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    硅片作為集成電路基石之一,其重要性不言而喻。但由于硅片市場(chǎng)目前被幾大巨頭所壟斷且我國(guó)在硅片產(chǎn)業(yè)起步較晚,使得我國(guó)硅片產(chǎn)業(yè)出現(xiàn)發(fā)展不均的情況。在小尺寸硅片方面,我國(guó)能大規(guī)模生產(chǎn) 4-6 英寸硅片,基本滿足國(guó)內(nèi)需求。但大硅片(8、12 英寸)方面則存在較大缺口。雖然 8 英寸硅片我國(guó)能自主進(jìn)行生產(chǎn),但仍不能滿足下游生產(chǎn)需求;而 12 英寸硅片則幾乎依賴于進(jìn)口。截至 2019 年 6 月,6 英寸國(guó)產(chǎn)化率超過(guò) 50%,8 英寸國(guó)產(chǎn)化率 10%,12 英寸國(guó)產(chǎn)化率小于1%,且國(guó)產(chǎn) 12 英寸硅片在國(guó)內(nèi)晶圓廠中大都為測(cè)控片,正片的銷售較少。隨著下游需求回暖,國(guó)內(nèi)硅片缺口將進(jìn)一步擴(kuò)大。參照日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展路徑,為彌補(bǔ)硅片產(chǎn)業(yè)不足,在政府政策和資金扶持下,我國(guó)硅片企業(yè)已走上追趕之路。

2018 年中國(guó) 8 英寸和 12 英寸硅片產(chǎn)品市場(chǎng)供給(單位:萬(wàn)片/月)

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    國(guó)家為促進(jìn)集成電路全產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,先后頒布了《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》、《集成電路產(chǎn)業(yè)“十三五”發(fā)展規(guī)劃》等政策。在這些政策中,不乏對(duì)于硅片產(chǎn)業(yè)發(fā)展提出指導(dǎo)意見(jiàn)。其中,《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》中提出要開發(fā)大尺寸硅片等關(guān)鍵材料,加強(qiáng)企業(yè)間合作;《“十三五”先進(jìn)制造技術(shù)領(lǐng)域科技創(chuàng)新專項(xiàng)規(guī)劃》中明確提出要重點(diǎn)研發(fā) 300mm 硅片。在國(guó)家政策推動(dòng)下,硅片產(chǎn)業(yè)將會(huì)得到強(qiáng)有力支持。

    智研咨詢發(fā)布的《2020-2026年中國(guó)半導(dǎo)體硅片行業(yè)市場(chǎng)發(fā)展規(guī)劃及投資戰(zhàn)略分析報(bào)告》數(shù)據(jù)顯示:對(duì)于半導(dǎo)體硅片新進(jìn)入者而言,半導(dǎo)體硅片在資本投入、生產(chǎn)技術(shù)和人才儲(chǔ)備等方面具有較高壁壘。此外,在硅片市場(chǎng)處于壟斷情況下,企業(yè)實(shí)現(xiàn)規(guī)模效應(yīng)將面臨挑戰(zhàn)。由于我國(guó)具有較大內(nèi)需市場(chǎng)且國(guó)家對(duì)硅片產(chǎn)業(yè)發(fā)展有政策扶持,所以我國(guó)企業(yè)能更好應(yīng)對(duì)外部競(jìng)爭(zhēng)。目前,我國(guó)企業(yè)對(duì)于國(guó)產(chǎn)供需缺口較大的 8 英尺和 12 英尺硅片均有布局,多個(gè)項(xiàng)目正逐步實(shí)施,產(chǎn)能將會(huì)逐步落地。據(jù)調(diào)查數(shù)據(jù)顯示,我國(guó)硅片企業(yè)規(guī)劃產(chǎn)能大多集中在 12 英寸硅片,大硅片產(chǎn)線投資合計(jì)超過(guò) 1400億元。其中,若 12 英寸硅片產(chǎn)按規(guī)劃落地,其月產(chǎn)能將超過(guò) 650 萬(wàn)片。

中國(guó) 8/12 英尺大硅片規(guī)劃產(chǎn)能情況(萬(wàn)片/月)

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8英寸
12 英寸
硅產(chǎn)業(yè)
36
60
超硅半導(dǎo)體
50
85
中環(huán)半導(dǎo)體
105
52
立昂微電子
52
40
有研半導(dǎo)體
23
30
申和熱磁
85
40
合晶硅材料 
20
20
其他
10
335
合計(jì)
381
662

數(shù)據(jù)來(lái)源:公開資料整理

    由于新建產(chǎn)能投資較大且需要 2-3 年產(chǎn)能才能落地,所以我國(guó)實(shí)現(xiàn)大硅片自給自足仍需要時(shí)間。但隨著我國(guó)硅片產(chǎn)能逐步爬坡,大硅片進(jìn)口依賴有望逐步緩解。此外,減少對(duì)進(jìn)口依賴將有助于產(chǎn)業(yè)安全。2019 年 7 月,日本宣布限制對(duì)韓國(guó)出口半導(dǎo)體材料。由于日本是全球最大半導(dǎo)體材料生產(chǎn)國(guó),在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域具有據(jù)對(duì)優(yōu)勢(shì),且韓國(guó)在部分材料對(duì)日本較為依賴,出口限制對(duì)韓國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)將產(chǎn)生影響。所以,產(chǎn)品進(jìn)口依賴高將降低產(chǎn)業(yè)安全邊際,特別在貿(mào)易爭(zhēng)端發(fā)生時(shí)將對(duì)相關(guān)行業(yè)造成較大沖擊。我國(guó)硅片產(chǎn)能逐步落地將有助于提升國(guó)產(chǎn)率,提升硅片供給安全。

    我國(guó)作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)第三次轉(zhuǎn)移的轉(zhuǎn)入國(guó),半導(dǎo)體銷售額在全球市場(chǎng)中占比在持續(xù)攀升。此外,我國(guó)是全球最大的消費(fèi)電子產(chǎn)品生產(chǎn)國(guó)、出口國(guó)和消費(fèi)國(guó),對(duì)于半導(dǎo)體產(chǎn)品需求較大。所以,國(guó)產(chǎn)化水平將對(duì)產(chǎn)業(yè)安全有較大影響。硅片作為晶圓制造材料市場(chǎng)中占比最大的且最基礎(chǔ)品種,我國(guó)在硅片領(lǐng)域存在短板且在大硅片方面更為突出。但在國(guó)家政策和資金的扶持下,我國(guó)眾多企業(yè)紛紛規(guī)劃產(chǎn)線,對(duì)半導(dǎo)體大硅片進(jìn)行布局。隨著產(chǎn)能逐步落地,能有效降低對(duì)進(jìn)口大硅片依賴程度,保障產(chǎn)業(yè)安全。

    目前,5G 通信在全球范圍內(nèi)掀起熱潮,韓國(guó)、美國(guó)、中國(guó)等國(guó)家已經(jīng)開通 5G 商用網(wǎng)絡(luò)。由于 5G 網(wǎng)絡(luò)需要相應(yīng)終端才能使用,在手機(jī)廠商逐步推出平價(jià) 5G 手機(jī)后,手機(jī)換機(jī)潮將有望出現(xiàn)。對(duì)于 To B 端而言,物聯(lián)網(wǎng)是 5G 下游應(yīng)用的重要一環(huán),車聯(lián)網(wǎng)、工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)等將成為焦點(diǎn)。此外,伴隨著數(shù)據(jù)流量爆發(fā),對(duì)于數(shù)據(jù)中心等基礎(chǔ)設(shè)施需求在增加。長(zhǎng)期而言,隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)下游應(yīng)用向好,硅片作為上游材料之一,其需求將有望增加。

    目前,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)主流硅片尺寸為 8 英寸和 12 英寸,其中 12 英寸出貨量占比超過(guò) 70%。雖然需求端持續(xù)向好,但供給端受產(chǎn)能利用率、投資周期等因素影響,短期內(nèi)無(wú)法大量擴(kuò)產(chǎn)。所以,供給端短期內(nèi)或?qū)⒈3脂F(xiàn)有規(guī)模。

    由于我國(guó)在硅片產(chǎn)業(yè)起步較晚,硅片國(guó)產(chǎn)程度較低,其中大硅片基本依靠進(jìn)口。但在國(guó)家政策和資金扶持下,我國(guó)硅片企業(yè)走上追趕的道路,目前已有多家企業(yè)對(duì)大硅片進(jìn)行布局。隨著產(chǎn)能落地,有望緩解對(duì)大硅片進(jìn)口依賴,提高產(chǎn)業(yè)安全。 

本文采編:CY337
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2025-2031年中國(guó)半導(dǎo)體硅片行業(yè)市場(chǎng)深度分析及投資方向研究報(bào)告
2025-2031年中國(guó)半導(dǎo)體硅片行業(yè)市場(chǎng)深度分析及投資方向研究報(bào)告

《2025-2031年中國(guó)半導(dǎo)體硅片行業(yè)市場(chǎng)深度分析及投資方向研究報(bào)告》共四章,包含單晶硅片行業(yè)篇,外延片行業(yè)篇,領(lǐng)先企業(yè)篇等內(nèi)容。

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