半導(dǎo)體清洗設(shè)備是貫穿半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要環(huán)節(jié),用于清洗原材料及每個(gè)步驟中半成品上可能存在的雜質(zhì),避免雜質(zhì)影響成品質(zhì)量和下游產(chǎn)品性能,在單晶硅片制造、光刻、刻蝕、沉積等關(guān)鍵制程及封裝工藝中均為必要環(huán)節(jié)。
一、半導(dǎo)體清洗行業(yè)清洗方法
在硅晶體管和集成電路生產(chǎn)中,幾乎每道工序都有硅片清洗的問題,所有與硅片接觸的媒介都可能對(duì)硅片造成污染,硅片清洗的好壞對(duì)器件性能有嚴(yán)重的影響。污染途徑可能來自于水、大氣、設(shè)備、各類化學(xué)試劑以及人為加工造成的污染,污染可以分為顆粒污染、有機(jī)物污染和金屬污染。若半導(dǎo)體材料表面存在痕量雜質(zhì),如鈉離子、金屬和其他雜質(zhì)粒子等,在高溫過程中會(huì)擴(kuò)散、傳播,進(jìn)入半導(dǎo)體材料內(nèi)部,對(duì)器件不利。要得到高質(zhì)量的半導(dǎo)體器件,硅片必須具有非常潔凈的表面。
半導(dǎo)體清洗有干法和濕法兩種清洗方法,目前濕法由于其成本低產(chǎn)能高的優(yōu)點(diǎn)占據(jù)主流,占整個(gè)清洗制程90%以上。濕法清洗由于使用相對(duì)多的化學(xué)試劑,也存在晶片損傷、化學(xué)污染和二次交叉污染等問題,而干法清洗雖然環(huán)境友好、化學(xué)用量少,隨著半導(dǎo)體制程不斷升級(jí),干法清洗低磨損的優(yōu)點(diǎn)日益突出,逐漸得到更多的關(guān)注。不過,目前干法清洗控制要求和成本較高,仍難以大量應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)中。因此實(shí)際的半導(dǎo)體產(chǎn)線上通常是以濕法清洗為主,少量特定步驟采用干法清洗相結(jié)合的方式互補(bǔ)所短,構(gòu)建半導(dǎo)體制造的清洗方案。
硅片的主要清洗方法及優(yōu)缺點(diǎn)
- | 清洗方法 | 描述 | 優(yōu)點(diǎn) | 缺點(diǎn) |
濕法清洗 | RCA清洗法 | 使用雙氧水與酸/堿溶液的混合物進(jìn)行兩步氧化。 | 在清除晶片表面的有機(jī)物、粒子和金屬等污染物時(shí)十分有效。 | 去除晶片表面污染物薄膜而不能去除顆粒;需在高溫環(huán)境下進(jìn)行;耗用化學(xué)品大,會(huì)加大硅片的粗糙度;排放量大污染環(huán)境。 |
超聲清洗方法 | 晶片浸沒在清洗液中,利用超高頻率的聲波能量將晶片正面和背面的顆粒有效去除。 | 清洗的速度快;清洗的效果比較好;能夠清洗各種復(fù)雜形狀的硅片表面;易于實(shí)現(xiàn)遙控和自動(dòng)化。 | 顆粒尺寸較小時(shí),清洗效果不佳;在空穴泡爆破的時(shí)候,巨大的能量會(huì)對(duì)硅片造成一定的損傷。 | |
干法清洗 | 氣相清洗法 | 先讓片子低速旋轉(zhuǎn),再加大速度使片子干燥,這時(shí),HF蒸汽可以很好的去除氧化膜玷污及金屬污染物。 | 對(duì)那些結(jié)構(gòu)較深的部分,比如溝槽,能夠進(jìn)行有效的清洗;對(duì)硅片表面粒子的清洗效果也比較好,并且不會(huì)產(chǎn)生二次污染。 | 雖然HF蒸汽可除去自然氧化物,但不能有效除去金屬污染。 |
紫外-臭氧清洗法 | 將晶片放置在氧氣氛圍中用汞燈產(chǎn)生的短波長紫外光進(jìn)行照射。 | 特別適合氧化去除有機(jī)物,另外還有某些特殊用途,如GaAs的清洗。 | 無法清洗一般的無機(jī)物沾污。 |
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市場上最主要的清洗設(shè)備有單晶圓清洗設(shè)備、自動(dòng)清洗臺(tái)和洗刷機(jī)三種。在21世紀(jì)至今的跨度上來看,單晶圓清洗設(shè)備、自動(dòng)清洗臺(tái)、洗刷機(jī)是主要的清洗設(shè)備,其他清洗設(shè)備包括超聲/兆聲清洗設(shè)備、晶圓盒清洗設(shè)備、干法清洗設(shè)備(如等離子清洗設(shè)備)等,占比較小。
半導(dǎo)體清洗設(shè)備
設(shè)備 | 清洗方法 | 適用場合 |
單晶圓清洗設(shè)備 | 旋轉(zhuǎn)噴淋 | 全生產(chǎn)流程中,比如擴(kuò)散前清洗、柵極氧化前清洗、外延前清洗、CVD前清洗、氧化前清洗、光刻膠清除、多晶硅清除和刻蝕環(huán)節(jié)等 |
自動(dòng)清洗臺(tái) | 溶液浸泡 | 全生產(chǎn)流程中 |
洗刷臺(tái) | 旋轉(zhuǎn)噴淋 | 鋸晶圓、晶圓磨薄、晶圓拋光、研磨、CVD |
超音波清洗設(shè)備 | 超聲清洗 | 半導(dǎo)體前道各階段 |
晶圓盒清洗設(shè)備 | 機(jī)械擦拭 | 晶圓盒清洗 |
等離子體清洗設(shè)備 | 等離子體清洗 | 光刻膠去除 |
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單晶圓清洗設(shè)備有著極高的制程環(huán)境控制能力與微粒去除能力,市場份額相對(duì)小。單晶圓清洗設(shè)備一般采取旋轉(zhuǎn)噴淋的方式,用化學(xué)噴霧對(duì)單晶圓進(jìn)行清洗的設(shè)備,相對(duì)自動(dòng)清洗臺(tái)清洗效率較低,產(chǎn)能較低,但有著極高的制程環(huán)境控制能力與微粒去除能力。可用于多種工藝中,包括擴(kuò)散前清洗、柵極氧化前清洗、外延前清洗、CVD前清洗、氧化前清洗、光刻膠清除、多晶硅清除等多個(gè)清洗環(huán)節(jié)和部分刻蝕環(huán)節(jié)中。還有另一種單晶圓清洗設(shè)備采取超聲波清洗方式,市場份額相對(duì)小。
二、半導(dǎo)體清洗行業(yè)市場現(xiàn)狀
2019年全年半導(dǎo)體銷售同比下滑12.4%。2019年全年全球半導(dǎo)體銷售額4110億美元。其中累計(jì)銷售額為3017億美元,同比下降14.2%,四季度雖然依然下降,但降幅明顯收窄,全年降幅收窄至12.4%。
1999-2019年全球半導(dǎo)體銷售額
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智研咨詢發(fā)布的《2020-2026年中國半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備行業(yè)市場競爭現(xiàn)狀及投資價(jià)值評(píng)估報(bào)告》數(shù)據(jù)顯示:2019年中國半導(dǎo)體市場需求約為全球的35%,中國為全球需求增長最快的地區(qū),年均復(fù)合增速超過20%。在中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的大規(guī)模引進(jìn)、消化、吸收以及產(chǎn)業(yè)的重點(diǎn)建設(shè)下,中國已成為全球半導(dǎo)體的主要市場之一。2014年中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)銷售額已達(dá)4887.8億元,同比增長11%;到了2016年中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)銷售額達(dá)到6378億元,同比增長14.8%;2018年全球半導(dǎo)體銷售額為4688億美元,其中我國半導(dǎo)體銷售額1579億,占全球市場的33.7%。2019年以來,全球市場半導(dǎo)體累計(jì)銷售額同比下降14%至3017億元。截至2019年9月,我國今年半導(dǎo)體累計(jì)銷售額達(dá)到1057億,同比下降12%,占全球市場的35%。隨著5G、消費(fèi)電子、汽車電子等下游產(chǎn)業(yè)的進(jìn)一步興起,預(yù)計(jì)中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)規(guī)模將快速增長。
中國及全球半導(dǎo)體銷售額(億美元)
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在整個(gè)半導(dǎo)體設(shè)備市場中,晶圓制造設(shè)備大約占整體的80%,封裝及組裝設(shè)備大約占7%,測試設(shè)備大約占9%,其他設(shè)備大約占4%。而在晶圓制造設(shè)備中,光刻機(jī),刻蝕機(jī),薄膜沉積設(shè)備為核心設(shè)備,分別占晶圓制造環(huán)節(jié)設(shè)備成本的30%,25%,25%。
從半導(dǎo)體設(shè)備供給側(cè)來看,全球規(guī)模以上晶圓制造設(shè)備商共計(jì)58家,其中日本的企業(yè)最多,達(dá)到21家,占36%,其次是歐洲13家、北美10家、韓國7家,而中國大陸僅4家,分別是上海盛美、中微半導(dǎo)體、Mattson(被亦莊國投收購)和北方華創(chuàng),占比不到7%。
2018年全球半導(dǎo)體設(shè)備廠商營收排名(百萬美元)
2018年排名 | 國家 | 公司 | 2017 | 2018 | 同比增速 |
1 | 北美 | AppliedMaterials | 13154.6 | 14016.1 | 6.50% |
2 | 歐洲 | ASML | 9758.3 | 12771.6 | 30.90% |
3 | 日本 | TokyoElectron | 8675.1 | 10914.8 | 25.80% |
4 | 北美 | LamResearch | 9558 | 10871.4 | 13.70% |
5 | 北美 | KLA | 3689 | 4209.8 | 14.10% |
6 | 日本 | Advantest | 1673.8 | 2593.3 | 54.90% |
7 | 日本 | SCREEN | 1863.5 | 2226 | 19.50% |
8 | 北美 | Teradyne | 1663 | 1492 | -10.30% |
9 | 日本 | KokusalElectric | 1181.6 | 1486 | 25.80% |
10 | 日本 | HitachiHigh-Technologies | 1200.3 | 1402.7 | 16.90% |
11 | 中國 | ASMPacificTechnology | 1107.3 | 1181.2 | 6.70% |
12 | 韓國 | SEMES | 1353 | 1173.9 | -13.20% |
13 | 歐洲 | ASMInternational | 836 | 991.2 | 18.60% |
14 | 日本 | Daifuku | 724.6 | 91.5 | 34.10% |
15 | 日本 | Canon | 499.4 | 765.4 | 53.30% |
總計(jì) | 56937.5 | 67066.9 | 17.80% | ||
半導(dǎo)體設(shè)備制造商規(guī)??傆?jì) | 70280.6 | 81140.3 | 15.50% |
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整體晶圓代工市場2019年到2023年的復(fù)合年均成長率為4.5%,市場營收可望于2023年達(dá)到783億美元。隨著眾多新晶圓廠的出現(xiàn)顯著提高了設(shè)備需求,對(duì)晶圓廠技術(shù)和產(chǎn)品升級(jí)以及額外產(chǎn)能的投資將會(huì)增加。
全球晶圓市場營收及同比增速
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隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)明顯向中國轉(zhuǎn)移,國產(chǎn)清洗設(shè)備企業(yè)將迎來良好的機(jī)遇。預(yù)測到2019年,中國的設(shè)備銷售將增長46.6%,達(dá)到173億美元。預(yù)計(jì)到2019年,中國,韓國和臺(tái)灣將保持前三大市場,中國將躋身榜首。韓國預(yù)計(jì)將變成第二大市場,為163億美元,而臺(tái)灣預(yù)計(jì)將達(dá)到123億美元的設(shè)備銷售額。
2018-2019是建廠高峰期,2019-2021是設(shè)備的高峰期,整體行業(yè)正進(jìn)入清潔設(shè)備采購期。2018年中國大陸Fab的設(shè)備采購付出接近120億美元,同比增加67%,超越中國臺(tái)灣成為全球第二大半導(dǎo)體設(shè)備市場,而到2019年,中國大陸的半導(dǎo)體設(shè)備采購金額有望超過韓國位居全球第一,達(dá)到180億美元,同比增加58%。
三、半導(dǎo)體清洗行業(yè)企業(yè)營收情況
目前在國內(nèi),至純科技、盛美半導(dǎo)體和北方華創(chuàng)主要承擔(dān)著清洗設(shè)備國產(chǎn)化的重任。其中盛美半導(dǎo)體技術(shù)起步較早,主攻單片式清洗設(shè)備。至純科技雖然起步在2015年,但近年來通過引進(jìn)海外優(yōu)秀人才,進(jìn)步迅速,目前已經(jīng)開拓了中芯、萬國、燕東、TI、華潤等知名企業(yè)。與至純科技,盛美半導(dǎo)體通過自主研發(fā)不同,北方華創(chuàng)主要是通過收購美國Akrion公司實(shí)現(xiàn)槽式清洗設(shè)備國產(chǎn)化。
1.至純科技
至純科技成立于2000年,一直致力于為高端先進(jìn)制造業(yè)企業(yè)提供高純工藝系統(tǒng)的解決方案,特別是在半導(dǎo)體集成電路領(lǐng)域,擁有較好的客戶口碑,客戶包括上海華力、中芯國際、長江存儲(chǔ)、合肥長鑫、士蘭微等企業(yè),2015年至純科技精準(zhǔn)定位半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化市場,通過引進(jìn)海外優(yōu)秀人才、設(shè)立海外子公司的方式,進(jìn)軍半導(dǎo)體清洗設(shè)備領(lǐng)域。公司目前已經(jīng)獲得了中芯、萬國、TI、燕東、華潤等客戶的正式訂單,并與長江存儲(chǔ)、合肥長鑫等國內(nèi)最主流存儲(chǔ)器廠商建立了密切合作關(guān)系。
2019年前三季度公司實(shí)現(xiàn)收入6.22億元,同比增長94.35%,歸母凈利潤約7430萬元,同比增長172%。今年第三季度公司銷售毛利率35%,銷售凈利率11.26%。公司發(fā)布2019年業(yè)績預(yù)告,預(yù)計(jì)19年歸屬上市公司股東凈利潤1.12-1.25億元,同比增長245-285%,扣非凈利潤0.95-1.08億元,同比增長231-276%。
至純科技總營業(yè)收入及同比增速
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至純科技?xì)w母凈利潤及同比增速
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2.北方華創(chuàng)
北方華創(chuàng)以生產(chǎn)銷售高端集成電路裝備為主,重點(diǎn)發(fā)展刻蝕設(shè)備(Etch)、物理氣相沉積設(shè)備(PVD)和化學(xué)氣相沉積設(shè)備(CVD)三大類設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路制造、先進(jìn)封裝、半導(dǎo)體照明(LED)、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)等領(lǐng)域。北方華創(chuàng)已經(jīng)成為了國家02專項(xiàng)承擔(dān)研發(fā)項(xiàng)目最多的機(jī)構(gòu)之一,尤其是關(guān)于12寸晶圓制造的刻蝕機(jī)、PVD、立式氧化爐、清洗機(jī)、LPCVD等設(shè)備,已經(jīng)批量進(jìn)入了國內(nèi)主流集成電路生產(chǎn)線。
得益于公司在半導(dǎo)體設(shè)備方面的良好表現(xiàn),營業(yè)收入和利潤保持穩(wěn)步增長。2019年1-9月,公司實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入27.36億元,同比增長加30.25%;實(shí)現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤2.16億元,同比增長27.3%。
北方華創(chuàng)總營業(yè)收入及同比增速
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北方華創(chuàng)歸母凈利潤及同比增速
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3.盛美半導(dǎo)體
盛美半導(dǎo)體設(shè)備在1998年由國家千人專家王暉博士為代表的一群清華校友成立于美國硅谷,2006年9月與上海市政府合資落戶上海張江高科技園區(qū)。公司主要產(chǎn)品包括:兆聲波單片清洗設(shè)備,TEBO,背面清洗設(shè)備,無應(yīng)力拋銅設(shè)備,TSV深孔清洗設(shè)備,干法刻蝕設(shè)備,涂膠機(jī),顯影機(jī),去膠機(jī),腐蝕機(jī),薄片清洗機(jī)等。公司近期宣布將尋求未來三年內(nèi)在上海證券交易所的科創(chuàng)板上市。
收入創(chuàng)歷史新高,盈利增長穩(wěn)健。2019年前三季度,公司實(shí)現(xiàn)營收8291.6萬美元,同比增長54%。截至2019年9月公司毛利率48.63%,凈利率26.27%。毛利率較為平穩(wěn),但凈利率較低且總體呈現(xiàn)下滑趨勢,近兩年略微出現(xiàn)反彈跡象。從2015年的20%以上到2017年凈利潤為負(fù),2018年開始略微回升,究其原因可能與研發(fā)費(fèi)用和管理費(fèi)用的大幅增加有關(guān)。
盛美總營業(yè)收入及同比增速
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盛美銷售毛利率及銷售凈利率
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